[發(fā)明專利]由陶瓷材料制成的物體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180017241.1 | 申請日: | 2011-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN103037830A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | M·斯蒂芬 | 申請(專利權(quán))人: | 斯特勞曼控股公司 |
| 主分類號: | A61K6/02 | 分類號: | A61K6/02;C04B35/486 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐晶;權(quán)陸軍 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陶瓷材料 制成 物體 | ||
1.由穩(wěn)定劑穩(wěn)定的陶瓷材料制成的物體,其特征在于所述物體包括由物體表面延伸至預(yù)定深度的表層區(qū),所述穩(wěn)定劑富集在所述表層區(qū)中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的物體,其特征在于在表層區(qū)中,陶瓷材料的穩(wěn)定劑比例高于所述物體其余部分中的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的物體,其特征在于在表層區(qū)中,穩(wěn)定劑的比例從預(yù)定深度到表面持續(xù)增加。
4.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體,其特征在于所述穩(wěn)定劑選自釔、鈰及其各自的氧化物。
5.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體,其特征在于表層區(qū)從物體表面延伸的深度為至少20nm,更優(yōu)選至少50nm,最優(yōu)選至少100nm。
6.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體,其特征在于所述物體的至少一部分表面具有表面粗糙度。
7.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體,其特征在于所述物體由包括氧化鋯的陶瓷材料制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的物體,其特征在于所述氧化鋯為氧化釔穩(wěn)定的。
9.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體,其特征在于在表層區(qū)中的陶瓷材料晶體結(jié)構(gòu)使得單斜晶相的比例至多與所述物體其它部分中的一樣高。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的物體,其特征在于在表層區(qū)中的陶瓷材料晶體結(jié)構(gòu)使得單斜晶相的比例小于20%。
11.根據(jù)任一項前述權(quán)利要求的物體的制造方法,所述方法包括以下的步驟:將穩(wěn)定劑施用到由陶瓷材料制成的本體表面,并在一定溫度下加熱具有施用在其上的穩(wěn)定劑的本體,使得至少一部分穩(wěn)定劑擴散進入到陶瓷材料中。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法,進一步包括在施用穩(wěn)定劑之前,通過消減處理使本體的至少一部分表面變粗糙的步驟。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的方法,其特征在于所述消減處理包括蝕刻步驟。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法,其特征在于所述消減處理進一步包括在蝕刻步驟之前的噴砂步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項的方法,其特征在于通過溶膠-凝膠法特別是浸漬涂層法、通過化學蒸氣沉積、通過物理氣相沉積和/或通過離子注入將穩(wěn)定劑施用到本體表面。
16.通過根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項的方法可獲得的物體。
17.權(quán)利要求1至10和16中任一項的物體作為植入物,特別是牙齒植入物的用途。
18.由穩(wěn)定劑穩(wěn)定的陶瓷材料制成的物體,其特征在于所述物體包括由物體表面延伸至預(yù)定深度的表層區(qū),所述陶瓷材料晶體結(jié)構(gòu)的單斜晶相含量在所述表層區(qū)中降低。
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