[發明專利]印刷的改進或涉及印刷的改進

有效

• 申請號: 201180014432.2
• 申請日: 2011-03-18
• 公開（公告）號: CN102844189A
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 約翰·大衛·亞當森;彼得·安得烈·瑞斯·貝內特;羅德尼·馬丁·帕茲
• 申請（專利權）人: JP影像有限公司
• 主分類號: B41C1/10
• 分類號: B41C1/10
• 代理公司: 北京高文律師事務所 11359
• 代理人: 徐江華

本發明涉及印刷的改進，特別涉及用于制備石版印刷的基底(包括涂覆和未涂覆的基底)的方法。本發明還涉及通過所述方法制備的新型石版印刷表面；并且涉及在所述方法中所使用的裝置。

從根本上講，所有石版印刷工藝都采用印刷版前體，所述印刷版前體具有特別制備的均勻分布的表面；并且修飾了其所選擇的區域，留下相對的未修飾的區域。許多工藝將印刷版前體置于化學顯影劑(其或者作用于修飾區域或者作用于未修飾區域)中以產生印刷所需的區別。任選地，印刷前，處理所制備的表面(例如通過烘烤)以硬化涂層剩余的區域

應注意的是，在本說明書中，我們使用術語“印刷版前體”是指具有均勻表面的最初物體，對于墨的合格或不合格沒有區別；術語“印刷版”是指具有能夠印刷的分化表面的物體。本文中的術語印刷版可由術語印刷版或版來代替。術語印刷版由于其寬泛的含義在本發明的描述和定義中是優選的。為方便閱讀，在本文中術語印刷版或版仍然可以使用。

通過合適的能量，其上具有化學組合物涂層的印刷版前體可改變它們在顯影劑溶液中的傾向性。在某些組合物中，能量使經受該能量的涂層區域更易溶解在顯影劑中。因為由能量成像實施所導致的溶解性的差異，在與顯影劑接觸時，成像區域溶解掉，剩下保留涂層的未成像區域。這樣的體系被稱為陽圖制版體系。涂層所剩余的區域通常是親油和親墨的。在溶解掉的區域中，基底暴露，并且通常是親水的，而且能夠接受墨/水貯存溶液的水組分，因此可以進行印刷。

在可替換的體系中，使已經經受成像能量處理的區域比成像區域更不易溶解，從而其中涂層溶解掉的是未成像的區域。這樣的體系稱為陰圖制版體系。

在許多常規體系中，能量為波長約190-400nm的紫外線輻射，許多對紫外線輻射敏感的陽圖制版體系使用存在于用作涂層的聚合物組合物中的醌疊氮化物部分。當暴露于紫外線輻射時，醌疊氮化物(NQD)部分分解，這樣使組合物更易溶解在顯影劑中。從機械角度看，當暴露于UV時，NQD抑制劑歷經化學反應，該化學反應已經估計產生局部熱至溫度200℃。使聚合物鏈之間氫鍵解開的作用由此使施加的顯影流體容易進入。此外，每個曝光的NQD抑制劑排出氮氣分子再次產生顯影劑的更多區域。從萘環結構經歷縮環作用形成苯并茚結構以形成比初始存在尺寸更小的化學產物，進一步產生顯影劑的更多自由區域來進入。這種曝光的化學品種類是羧酸，因此其比初始的NQD更易溶解，并因此更加容易溶解在顯影劑中。最終，該反應是不可逆的-不能恢復。

近些年，已經開發了用于印刷版的新的陽圖制版技術。該技術使用波長800-1400nm的紅外輻射。在這些體系中，聚合物組合物包含酚醛樹脂并合適地包含芳香族化合物，例如諸如結晶紫等的三甲基甲烷燃料。通過使用紅外激光，將激光傳輸至涂層的所選擇區域，轉化成熱并且通過使氫鍵松散，提高這些區域在顯影劑中的溶解性。

盡管看起來NQD和IR陽圖光敏行為類似，但實際上在兩個體系之間在溶解對比(DC)中存在很大的不同，DC定義為與曝光涂層的溶解相比較的未曝光涂層的溶解速率。圖1顯示了這種差別。

存在一些非常不理想的熱版的低DC的結果。首先是僅對氫鍵的依賴性使結構容易被環境溫度改變并且溫度隨時間改變導致隨時間或溫度版光敏性改變-對于在持續12個月內并且全球運送至不同的氣候地區的供應鏈內的產品來說是一個后勤問題。為了克服這個缺點，將產品在升高的溫度下熱處理幾天以使版在高于該溫度的市場中穩定。這是昂貴的附加步驟，也導致對顧客的更長的提前期。EP1024958描述了這樣的方法。由低DC導致的第二個缺點是涂層也對任意工藝中的變化敏感，這個缺點能夠影響涂層的粘附或溶解。這顯示在圖2中。例如，在制備用于印刷版的鋁上的親水構造的電化學?；校绻；^深則涂層的包括體積高，并且表面涂層厚度(特別是在平臺區域中)降低，導致客戶加工過程中的過度溶解。這需要對熱陽圖版的形貌進行更緊密的控制。

在熱陽圖體系中的弱結合賦予應用的液體涂層相對低的內聚能，使這樣的涂層非常容易形成涂層空洞?；妆砻娴男∥廴疚锬軌蚺懦馔繉?；當涂層的內聚能低時，涂層沒有充分的能量來克服污染物和空洞或白點產物的表面能。盡管白點能夠在類似的NQD陽圖版上存在，但以比在熱陽圖涂層中明顯更低的水平存在。此外，一旦熱涂層已經干燥，由于涂層的相對弱的結合，就不再像類似陽圖NQD版，其易于刮傷、擦傷和壓迫。

鑒于產品質量和產品產率，結合熱陽圖體系中的不理想的效果，在生產中產生真正的挑戰。

這些和其它體系中的固有性質是“波長匹配”的概念：即成像能必須與印刷版可成像涂層的化學結合。