[發(fā)明專利]研磨制品,其制備方法及其應(yīng)用方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201180010888.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-01-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102762684A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·庫(kù)雅特;Y·李;K·拉欣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 巴斯夫歐洲公司 |
| 主分類號(hào): | C09K3/14 | 分類號(hào): | C09K3/14 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 肖威;劉金輝 |
| 地址: | 德國(guó)路*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 研磨 制品 制備 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.研磨制品,其包含選自無(wú)機(jī)顆粒、有機(jī)顆粒和無(wú)機(jī)-有機(jī)混雜顆粒(a1)的固體磨料顆粒(A),其具有根據(jù)激光衍射測(cè)得的為1-500nm平均初級(jí)粒度且具有與其表面化學(xué)鍵接的給電子基團(tuán)(a2);其中所述固體磨料顆粒(A)分布于整個(gè)固體基體(B)中或分布于其上,或者分布于整個(gè)固體基體(B)中且分布于其上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的研磨制品,其特征在于所述無(wú)機(jī)顆粒(a1)選自氧化鋁、氧化鍺、二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋅、氮化硅和碳化硅;所述有機(jī)顆粒(a1)選自蜜胺、蜜胺衍生物、蜜胺-甲醛樹(shù)脂、雙氰胺、以及環(huán)氧樹(shù)脂、聚氨酯、聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚烯烴、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯,包括其相應(yīng)共聚物、接枝共聚物和共混物;所述無(wú)機(jī)-有機(jī)混雜顆粒(a1)選自涂覆有至少一種選自環(huán)氧樹(shù)脂、蜜胺-甲醛樹(shù)脂、聚氨酯、聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚烯烴、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯,包括其相應(yīng)共聚物、接枝共聚物和共混物的聚合物的無(wú)機(jī)顆粒(a1),涂覆有至少一種氧化鋁、氧化鍺、二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋅、氮化硅和碳化硅的有機(jī)顆粒(a1),以及由至少一種無(wú)機(jī)顆粒(a1)和至少一種有機(jī)顆粒(a1)構(gòu)成的顆粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的研磨制品,其特征在于所述給電子基團(tuán)(a2)選自伯、仲和叔氨基,磷烷基、肼基、肟基、縮二脲基、羰基、羥基、巰基、硫代、醚基、硫醚基、羧酸酯基、磺酸酯基、膦酸酯基和磷酸酯基以及由其衍生的陰離子基團(tuán),氨基亞甲基羧酸基團(tuán)和膦酸基團(tuán)以及由其衍生的陰離子基團(tuán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的研磨制品,其特征在于在所述磨料顆粒(A)中,給電子基團(tuán)(a2)經(jīng)由多價(jià)連接基團(tuán)(a3)共價(jià)鍵接至顆粒(a1)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的研磨制品,其特征在于所述多價(jià)連接基團(tuán)(a3)選自具有2-20個(gè)碳原子的有機(jī)結(jié)構(gòu)部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的研磨制品,其特征在于所述多價(jià)連接基團(tuán)(a31)包含至少一個(gè)選自如下組的多官能基團(tuán)(a31):-O-、-C(O)-、-C(S)-、-C(O)-O-、-O-C(O)-O-、-O-C(S)-O-;-(-O-)4Si、-(-O-)3Si-、-(-O-)2Si<、-O-Si≡、-(-O-)2Si(-R)-、-O-Si(-R)2-;-NR-、=N-、-N=N-、-NR-C(O)-、-NR-NR-C(O)-、-NR-NR-C(S)-、-O-C(O)-NR-、-O-C(S)-NR-、-NR-C(O)-NR-、-NR-C(S)-NR-;-(-O-)3P(O)、-(-O-)3P(S)、-(-O-)2P(O)-、-(-O-)2P(S)-、-(-NR-)3P(O)、-(-NR-)3P(S)、-(-NR-)2P(O)-、-(-NR-)2P(S)-;-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-S(O)2-和-NR-S(O)2-;其中基團(tuán)R為氫原子或具有1個(gè)碳原子或2-20個(gè)碳原子的非反應(yīng)性、單價(jià)、取代或未取代的結(jié)構(gòu)部分,條件是與硅鍵接的R不為氫原子。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)的研磨制品,其特征在于所述固體基體(B)包含至少一種三維結(jié)構(gòu)體或由其構(gòu)成,所述三維結(jié)構(gòu)體包含磨料顆粒(A)且選自機(jī)織布或無(wú)紡布和紡織品、泡沫和致密材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)的研磨制品,其特征在于將所述固體基體(B)粘合至背襯材料(D)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)的研磨制品,其特征在于所述固體基體(B)的拋光表面是圖案化的。
10.一種制備研磨制品的方法,其包括如下步驟:
(1)提供至少一種選自無(wú)機(jī)顆粒、有機(jī)顆粒和無(wú)機(jī)-有機(jī)混雜顆粒(a1)的固體磨料顆粒(A),其具有根據(jù)激光衍射測(cè)得的為1-500nm平均初級(jí)粒度且具有與其表面化學(xué)鍵接的給電子基團(tuán)(a2);和
(2)將所述固體磨料顆粒(A)分布于整個(gè)固體基體(B)中或分布于其上,或者分布于整個(gè)固體基體(B)中且分布于其上。
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