[發明專利]光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 201180010603.4
• 申請日: 2011-02-18
• 公開（公告）號: CN102770810A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 約翰內斯·昂伍李;彼得·德亞格爾;埃爾溫·范茨韋特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種光刻設備，包括：

兩個或更多的光學裝置列，配置成將束投影到襯底的目標部分上，所述兩個或更多的光學裝置列中的每一個包括用于提供所述束的一個或更多的輻射源和用于將所述束投影到目標部分上的投影系統；

掃描移動致動器，配置成相對于所述兩個或更多的光學裝置列沿掃描方向以掃描速度移動襯底；和

兩個或更多的位置測量裝置，配置成確定相應的兩個或更多的光學裝置列相對于參考物體的位置。

2.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述參考物體包括至少一個標記，其中所述至少一個標記布置在所述兩個或更多的光學裝置列中的兩個相鄰的光學裝置列的目標部分的重疊部分中，其中所述至少一個標記用于兩個相鄰的光學裝置列相對于彼此的位置測量。

3.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述參考物體包括多個標記，所述兩個或更多的位置測量裝置中的每一個包括被布置用于接收所述多個標記中的一個標記的反射圖像的圖像傳感器，其中光學裝置列的位置可以基于投影到圖像傳感器上的反射圖像來確定。

4.根據權利要求3所述的光刻設備，其中所述一個標記布置在所述兩個或更多的光學裝置列的兩個相鄰的光學裝置列的目標部分的重疊部分中，使得所述反射圖像被兩個位置測量裝置接收。

5.根據權利要求3或4所述的光刻設備，其中所述兩個或更多的位置測量裝置中的每一個包括分束器和1/4波片，布置成將反射圖像引導至圖像傳感器。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的光刻設備，其中所述位置測量裝置集成到相應的光學裝置列中。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的光刻設備，包括對準調節裝置，用于基于所測量的位置調節所述兩個或更多的光學裝置列的一個或更多的束的位置。

8.根據權利要求7所述的光刻設備，其中所述對準調節裝置配置成調節被投影到目標部分內的圖案，用于對準所述兩個或更多的光學裝置列。

9.根據權利要求7或8所述的光刻設備，其中所述對準調節裝置配置成通過控制所述相應的兩個或更多的光學裝置列中的一個或更多的輻射源的激勵時間和/或強度來調節所述圖案。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的光刻設備，其中每個光學裝置列包括至少一個可移動的透鏡元件，其中致動器連接至所述透鏡元件，用于調節在相應的目標部分中生成的圖案的位置。

11.根據權利要求1-10中任一項所述的光刻設備，其中所述光刻設備包括多于兩個的光學裝置列，且其中每個光學裝置列包括位置測量裝置。

12.根據權利要求1-11中任一項所述的光刻設備，其中所述兩個或更多的光學裝置列的位置被在圖案將被投影所在的襯底的表面的平面中在兩個方向上測量。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的光刻設備，其中所述參考物體是襯底。

14.根據權利要求1-12中任一項所述的光刻設備，其中所述參考物體是安裝在襯底支撐裝置上的參考板。

15.根據權利要求1-14中任一項所述的光刻設備，其中所述輻射源是自發射式對比度裝置。

16.根據權利要求1-15中任一項所述的光刻設備，包括致動器，所述致動器用于相對于襯底移動所述兩個或更多的光學裝置列中的一個的至少一部分。

17.一種用于對準根據權利要求1-16中任一項所述的光刻設備的光學裝置列的方法，所述方法包括步驟：

測量多個光學裝置列的目標部分相對于參考物體的位置；

相對于彼此比較相鄰的光學裝置列的目標位置的位置；和

調節投影到目標部分上的圖案用于對準光學裝置列。

18.根據權利要求17所述的方法，其中所述參考物體包括至少一個標記，其中所述至少一個標記布置在所述兩個或更多的光學裝置列中的兩個相鄰的光學裝置列的目標部分的重疊部分中，其中所述兩個相鄰的光學裝置列中的至少一個標記的被測量的位置用于確定兩個相鄰的光學裝置列相對于彼此的位置。