[發明專利]光學元件的制造方法及光學元件成型模具

無效

• 申請號: 201180010278.1
• 申請日: 2011-02-03
• 公開（公告）號: CN102781855A
• 公開（公告）日: 2012-11-14
• 發明（設計）人: 小椋和幸;釜田善浩
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達先進多層薄膜株式會社
• 主分類號: C03B11/16
• 分類號: C03B11/16;C03B11/00;G01B11/27;G01M11/02;G02B7/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李洋;楊林森

技術領域

本發明涉及光學元件的制造方法及光學元件成型模具。

背景技術

現在，光學元件被廣泛用作為數碼相機用透鏡、DVD等光拾取透鏡、手機用照相透鏡、光通信用偶合透鏡等等。這些由光學元件構成的光學系統被要求較高的性能，因此，就光學元件單體，也希望能夠用更高的精度來形成。

上述光學元件有通過模壓成型法、用成型模具加壓成型被加熱軟化的玻璃來進行制造的情況。

模壓成型法中，除了必須高精度地形成模具上用來成型光學元件面對面的光學面的模具成型面之外，還必須高精度對準該相對的模具成型面的相對位置。

為了高精度對準模具的相對位置，有時例如評價用該模具成型的光學元件，根據評價，調整該模具的相對位置。例如，有下述技術已為公開：形成由在光學透鏡兩透鏡面各光軸上持有中心的小突起構成的凸部，從各凸部的位置偏離求得兩透鏡面的偏芯量，根據該偏芯量，調整成型光學透鏡之成型模具的相對位置（請參照例如專利文獻1）。

專利文獻1：特開2006-58850號公報

專利文獻1中記載的模具的相對位置調整，是形成在光學透鏡光軸上持有中心的凸部，在調整中利用。因此，成型的光學透鏡上，尤其是直徑小的時候，多少對光學性能有所影響，有時得不到充分的性能。另外，還必須在模具成型光學透鏡光學面的成型面上，不影響該成型面地形成與凸部相應的凹洼，因此模具制造的負擔增大。

發明內容

本發明鑒于上述課題，目的在于提供一種光學元件的制造方法以及光學元件成型模具，其中，不設影響光學性能的凸部等，能夠成型高精度的光學元件。

上述課題通過下述構成得以解決。

1．一種光學元件的制造方法，是采用一對成型模具、其具有成型備有面對面光學面之光學元件的成型面，成型所述光學元件，光學元件制造方法的特征在于，

所述成型模具備有：成型用該成型模具制造的第1光學元件的成型面；與成型所述第1光學元件的成型面分開的、成型在調整一對所述成型模具的相對位置時使用的第2光學元件的成型面；

具有以下工序：

第1成型工序，采用所述成型模具，成型所述第2光學元件；

測定工序，根據在所述第1成型工序成型的所述第2光學元件的透過波前像差，求所述第2光學元件面對面光學面的相對位置偏離量；

相對位置調整工序，根據由所述測定工序求得的所述相對位置偏離量，調整一對所述成型模具的相對位置；

第2成型工序，采用經所述相對位置調整工序調整了相對位置的所述成型模具，成型所述第1光學元件。

2．上述1中記載的光學元件的制造方法，其特征在于，平面波或球面波入射到所述第1光學元件及所述第2光學元件上時，各透過波前偏離最接近所述第1光學元件及所述第2光學元件各設計透過波前之球面的偏差量，是所述第2光學元件的小于所述第1光學元件的。

3．上述1中記載的光學元件的制造方法，其特征在于，所述第2光學元件與所述第1光學元件相比較，相對面對面光學面相對位置偏離量的透過波前像差發生量的比率大。

4．上述1至3的任何一項中記載的光學元件的制造方法，其特征在于，所述第2光學元件的透過波前像差包括由面對面光學面的平行偏芯、傾斜偏芯的至少一個引起產生的像差。

5．上述1或3中記載的光學元件的制造方法，其特征在于，所述第2光學元件的透過波前像差包括由于面對面光學面以所述第2光學元件的光軸為軸相對旋轉而引起產生的像差。

6．一種光學元件成型模具，其特征在于，具有在上述1至5的任何一項中記載的光學元件的制造方法中使用的所述第1光學元件及所述第2光學元件的成型面。

根據本發明，可以不牽涉第1光學元件的規格，使第2光學元件的規格以調整為目的。因此，可以根據規格適合于調整成型模具相對位置之目的的第2光學元件的透過波前像差，進行制造第1光學元件的成型模具的相對位置調整，能夠高精度調整相對位置。因此，能夠提供一種不采用設影響光學性能的凸部等，能夠高精度成型第1光學元件的光學元件的制造方法以及光學元件成型模具。

附圖說明

圖1是成型光學元件的成型模具的示意圖。

圖2中，（a）是圖1所示下模的G-G′位置以及上模的F-F′位置的截面圖，在下模中載置玻璃素材的狀態。（b）是用下模和上模加壓玻璃素材狀態的截面示意圖。

圖3中，（a）是下模、上模相對位置平行偏離的狀態示意圖。（b）是下模、上模相對位置傾斜偏離的狀態部分截面示意圖。