[發明專利]底層膜材料及多層抗蝕圖案的形成方法

無效

• 申請號: 201180009314.2
• 申請日: 2011-01-18
• 公開（公告）號: CN102754033A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 林宏美;越后雅敏
• 申請（專利權）人: 三菱瓦斯化學株式會社
• 主分類號: G03F7/11
• 分類號: G03F7/11;H01L21/027;H01L21/3065
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種底層膜材料，其包括兩種或多種由下式(1-1)表示的環狀化合物，其中至少一種R’為由下式(1-2)表示的基團，至少一種由下式(1-2)表示的基團的含量為包含在所述材料中的R’的10mol%至90mol%：

(在式(1-1)中，L獨立地為選自由單鍵、碳數為1至20的直鏈或支化的亞烷基、碳數為3至20的亞環烷基、碳數為6至24的亞芳基、-O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-N(R⁵)-C(=O)-、-N(R⁵)-C(=O)O-、-S-、-SO-、-SO₂-及其任意組合組成的組中的二價基團；R¹獨立地為碳數為1至20的烷基、碳數為3至20的環烷基、碳數為6至20的芳基、碳數為1至20的烷氧基、氰基、硝基、羥基、雜環基、鹵原子、羧基、碳數為2至20的酰基、碳數為1至20的烷基甲硅烷基或氫原子；R’獨立地為氫原子，碳數為1至20的烷基，聯苯基，碳數為6至20的芳基的氫原子被碳數為1至20的烷基和鹵原子取代的基團，或碳數為2至20的烷基的一個或多個氫原子被碳數為1至20的烷基、碳數為6至20的芳基、碳數為1至20的烷氧基、氰基、硝基、雜環基、鹵原子、羧基、碳數為2至20的酰基、羥基和碳數為1至20的烷基甲硅烷基取代的基團，或者由下式(1-2)表示的基團：

[化學式2]

其中，R⁴獨立地為選自由氫原子、碳數為1至20的烷基、碳數為3至20的環烷基、碳數為6至20的芳基、碳數為1至20的烷氧基、氰基、硝基、雜環基、鹵原子、羧基、羥基、具有碳數為3至20的烷基的環烷基和碳數為1至20的烷基甲硅烷基組成的組中的官能團；R⁵為氫原子或碳數為1至10的烷基；m為1至4的整數；和p為0至5的整數)。

2.根據權利要求1所述的底層膜材料，其中所述環狀化合物由下式(2)表示：

(在式(2)中，R¹、R’和m與上述相同；X₂為氫原子或鹵原子；m₅為0至3的整數；和m+m₅=4)。

3.根據權利要求1所述的底層膜材料，其中所述環狀化合物由下式(3)表示：

[化學式4]

(在式(3)中，R’和m與上述相同，條件是所有R’不必相同)。

4.根據權利要求1所述的底層膜材料，其中R’包括選自由下式(1-3)表示的基團組成的組中的基團，且不是所有R’都相同。

5.根據權利要求1所述的底層膜材料，其通過使用酸催化劑使選自由下式(4-1)表示的醛類(A1)(條件是至少之一為由下式(4-2)表示的醛類)組成的組中的兩種或多種和選自由酚類化合物(A2)組成的組中的一種或多種進行縮合反應來獲得：

[化學式6]

(在式(4-1)中，R’與上述相同)

(在式(4-2)中，R⁴和p與上述相同)。

6.根據權利要求5所述的底層膜材料，其通過將混合液(B)滴入混合液(A)中來獲得，所述混合液(B)由選自由醛類(A1)(條件是至少之一為由式(4-2)表示的醛類)組成的組中的兩種或多種構成，所述混合液(A)由酚類化合物(A2)、酸催化劑和醇構成。

7.根據權利要求1所述的底層膜材料，其進一步包括溶劑。

8.根據權利要求1或7所述的底層膜材料，其中所述環狀化合物為環狀化合物(A)，所述環狀化合物(A)具有700至5000的分子量，并通過借助使用酸催化劑的選自由下式(4-1)表示的醛類(A1)(條件是至少之一為由下式(4-2)表示的醛類)組成的組中的兩種或多種和選自由酚類化合物(A2)組成的組中的一種或多種的縮合反應來合成：

(4-1)

(在式(4-1)中，R’與上述相同)

(在式(4-2)中，R⁴和p與上述相同)。