[發(fā)明專利]偏振板用膠粘劑、偏振板及其制造方法、光學(xué)膜、以及圖像顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201180007014.0
• 申請日: 2011-03-03
• 公開（公告）號: CN102741717A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 赤利玲子;池田哲朗;品川雅;淺原嘉文
• 申請（專利權(quán)）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;C09J11/04;C09J129/04;G02F1/1335
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 雒運(yùn)樸

1.一種偏振板用膠粘劑，其是用于在偏振片的至少單面設(shè)置透明保護(hù)膜的偏振板用膠粘劑，其特征在于，

所述偏振板用膠粘劑是含有聚乙烯醇系樹脂和水溶性硅酸鹽的樹脂溶液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振板用膠粘劑，其中，相對于聚乙烯醇系樹脂100重量份，水溶性硅酸鹽的配合量為1～100重量份。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振板用膠粘劑，其中，水溶性硅酸鹽為從硅酸鋰、硅酸鈉和硅酸鉀中選擇的至少1種硅酸鹽。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的偏振板用膠粘劑，其中，硅酸鋰的SiO₂/Li₂O的摩爾比為2～8。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的偏振板用膠粘劑，其中，硅酸鈉的SiO₂/Na₂O的摩爾比為2～5。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的偏振板用膠粘劑，其中，硅酸鉀的SiO₂/K₂O的摩爾比為2～5。

7.一種偏振板用膠粘劑，其是用于在偏振片的至少單面設(shè)置透明保護(hù)膜的偏振板用膠粘劑，其特征在于，

所述偏振板用膠粘劑是含有聚乙烯醇系樹脂、硅酸鹽、以及具有1個以上的氨基和1個以上的酸性基團(tuán)的氨基酸和/或含硫氨基酸的樹脂溶液。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的偏振板用膠粘劑，其中，相對于聚乙烯醇系樹脂100重量份，氨基酸和/或含硫氨基酸的配合量為5～50重量份。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的偏振板用膠粘劑，其中，酸性基團(tuán)為羧基或磺基。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的偏振板用膠粘劑，其中，硅酸鹽為選自水溶性硅酸鋰、水溶性硅酸鈉和水溶性硅酸鉀中的至少一種硅酸鹽。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的偏振板用膠粘劑，其中，聚乙烯醇系樹脂為含有乙酰乙?；木垡蚁┐枷禈渲?。

12.一種偏振板，其是在偏振片的至少一個面借助膠粘劑層設(shè)置有透明保護(hù)膜的偏振板，其特征在于，所述膠粘劑層是由權(quán)利要求1所述的偏振板用膠粘劑形成的。

13.一種偏振板，其是在偏振片的至少一個面借助膠粘劑層設(shè)置有透明保護(hù)膜的偏振板，其特征在于，所述膠粘劑層是由權(quán)利要求7所述的偏振板用膠粘劑形成的。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的偏振板，其中，膠粘劑層的厚度為10～300nm。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的偏振板，其中，膠粘劑層的折射率為1.47～1.54。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的偏振板，其中，膠粘劑層的折射率為1.47～1.55。

17.一種偏振板的制造方法，其是制造在偏振片的至少一個面借助膠粘劑層設(shè)置有透明保護(hù)膜的偏振板的方法，其特征在于，包括：

制備權(quán)利要求1或7所述的偏振板用膠粘劑的工序、在偏振片的將要形成所述膠粘劑層的面和/或透明保護(hù)膜的將要形成所述膠粘劑層的面涂布所述偏振板用膠粘劑的工序、以及使偏振片與透明保護(hù)膜貼合的工序。

18.一種光學(xué)膜，其特征在于，至少層疊有一片權(quán)利要求12或13所述的偏振板。

19.一種圖像顯示裝置，其特征在于，包含權(quán)利要求12或13所述的偏振板。

20.一種圖像顯示裝置，其特征在于，包含權(quán)利要求18所述的光學(xué)膜。