[發(fā)明專利]脫硝裝置的控制裝置、具備該控制裝置的脫硝裝置、及具備該脫硝裝置的鍋爐設(shè)備、以及脫硝裝置的控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180004764.2 | 申請日： | 2011-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN102655927A | 公開（公告）日： | 2012-09-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 山浦剛俊;出口祥啟;鵜飼展行;沖野進;長安立人 | 申請（專利權(quán)）人： | 三菱重工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | B01D53/56 | 分類號： | B01D53/56;B01D53/74;B01D53/94 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 雒運樸 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 裝置 控制 具備 鍋爐 設(shè)備 以及 方法 | ||
1.一種脫硝裝置的控制裝置，其具備：
向流體投入藥劑的藥劑投入機構(gòu)；
計測流體的溫度分布的溫度測定裝置；
根據(jù)由所述溫度測定裝置求出的溫度分布來算出投入到流體中的藥劑的濃度分布的藥劑濃度算出部；
根據(jù)由所述藥劑濃度算出部算出的濃度分布來決定所述藥劑投入機構(gòu)投入的藥劑的流量的藥劑流量決定部；
對所述藥劑投入機構(gòu)進行控制，以將該藥劑流量決定部決定的流量的藥劑向流體投入的藥劑投入機構(gòu)控制部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝裝置的控制裝置，其中，
具備藥劑濃度控制機構(gòu)，該藥劑濃度控制機構(gòu)控制由所述藥劑投入機構(gòu)向流體投入的藥劑的濃度，
所述藥劑濃度控制機構(gòu)控制與藥劑混合的稀釋劑的流量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的脫硝裝置的控制裝置，其中，
所述溫度測定裝置具備：安裝在流體流動的流路的一壁面上的受光部；使從另一壁面發(fā)出且通過了流體的光向該受光部入射，并對入射到該受光部的光進行分光的分光部；根據(jù)由該分光部分光出的光，檢測流體的實測吸收光譜的檢測部；根據(jù)由該檢測部檢測到的所述實測吸收光譜，算出流體的溫度的溫度算出部。
4.一種脫硝裝置，其具備：
權(quán)利要求1～3中任一項所述的控制裝置；
對由所述控制裝置控制了流量后的藥劑進行引導(dǎo)的多個噴嘴；
將由多個該噴嘴噴霧出的流體中的氮氧化物除去的催化劑部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的脫硝裝置，其中，
所述藥劑是氨、氨與氯化氫的混合物、氨水溶液、尿素水溶液、或氯化氨水溶液中的任一種。
6.一種鍋爐設(shè)備，其具備：
排出流體的鍋爐；
對從該鍋爐排出的流體進行引導(dǎo)的權(quán)利要求4或5所述的脫硝裝置；
與從該脫硝裝置導(dǎo)出的流體進行熱交換的熱交換器。
7.一種脫硝裝置的控制方法，其具備：
向流體投入藥劑的藥劑投入工序；
計測流體的溫度分布的溫度測定工序；
根據(jù)由該溫度測定工序求出的溫度分布來算出投入到流體中的藥劑的濃度分布的藥劑濃度算出工序；
根據(jù)由該藥劑濃度算出工序算出的濃度分布來決定投入的藥劑的流量的藥劑投入流量決定工序；
將該藥劑投入流量決定工序決定的流量的藥劑向流體投入的藥劑投入機構(gòu)控制工序。
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