[發明專利]曝光方法、曝光裝置、圖案形成方法及器件制造方法

有效

• 申請號: 201180004420.1
• 申請日: 2011-02-02
• 公開（公告）號: CN102612669A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 木內徹;水谷英夫
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/213
• 分類號: G03F7/213;G03F7/22;H01L21/027;G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李洋;楊林森

1.一種曝光方法，該曝光方法將在第一面配置的圖案的像投影到長條基板并向該長條基板轉印所述圖案，

所述曝光方法的特征在于，

所述曝光方法包括：

使所述圖案沿著所述第一面朝第一方向移動；

將所述圖案中的在所述第一面的第一部分區域配置的第一部分圖案的放大像以規定倍率投影到第一投影區域；

將所述圖案中的在從所述第一部分區域沿所述第一方向隔開規定的中心間隔的第二部分區域配置的第二部分圖案的放大像，以所述規定倍率投影到與所述第一投影區域不同的第二投影區域；

與所述圖案朝所述第一方向的移動同步，以經由所述第一投影區域以及所述第二投影區域的方式使所述長條基板沿該長條基板的長邊方向移動；

基于所述規定倍率以及所述中心間隔，設定所述圖案沿著所述第一方向的圖案長度、與從所述第一投影區域到所述第二投影區域的所述長條基板的基板長度的至少一方。

2.根據權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

設定所述圖案長度與所述基板長度的至少一方，是指使所述圖案長度AL、所述基板長度SL、所述規定倍率MG以及所述中心間隔GP之間滿足

0＜SL≤MG×(AL-GP)的關系。

3.根據權利要求2所述的曝光方法，其特征在于，

在所述圖案的所述第一方向上的兩端部的區域形成有相互相同形狀的圖案。

4.根據權利要求2所述的曝光方法，其特征在于，

所述圖案包括周期圖案，該周期圖案遍及所述第一方向的所述圖案長度而在該第一方向具有周期性。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的曝光方法，其特征在于，

使所述圖案朝所述第一方向移動，包括使與所述圖案在所述第一方向鄰接的輔助圖案沿著所述第一面朝所述第一方向移動，

通過將所述輔助圖案中的在所述第一部分區域或者所述第二部分區域配置的部分輔助圖案的放大像以所述規定倍率投影到所述第一投影區域或者所述第二投影區域而在所述長條基板上形成的輔助轉印圖案、通過將所述第一部分圖案的放大像投影到所述第一投影區域而在所述長條基板上形成的第一轉印圖案、以及通過將所述第二部分圖案的放大像投影到所述第二投影區域而在所述長條基板上形成的第二轉印圖案，以在所述長條基板上相互連結的方式進行曝光。

6.根據權利要求5所述的曝光方法，其特征在于，

對由相互連結的所述第一轉印圖案與所述第二轉印圖案構成的轉印圖案區域進行多次重復曝光。

7.根據權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

設定所述圖案長度與所述基板長度的至少一方，是指使所述圖案長度AL、所述基板長度SL、所述規定倍率MG以及所述中心間隔GP之間滿足

SL＞MG×(AL-GP)的關系。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的曝光方法，其特征在于，

設定所述圖案長度與所述基板長度的至少一方，包括準備形成有與所述規定倍率以及所述中心間隔對應的所述圖案長度的圖案的掩模，并將該掩模的圖案面配置于所述第一面。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的曝光方法，其特征在于，

使所述長條基板沿著所述長邊方向移動，包括使經由了所述第一投影區域的所述長條基板的區域經由迂回路徑移動至所述第二投影區域，

設定所述圖案長度與所述基板長度的至少一方，包括基于所述規定倍率以及所述中心間隔來設定所述迂回路徑中的所述長條基板的長度。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的曝光方法，其特征在于，

使所述長條基板沿所述長邊方向移動，是使所述長條基板朝所述長邊方向的一方側持續移動，

使所述圖案朝所述第一方向移動，是使所述圖案沿所述第一方向往復移動。

11.根據權利要求10所述的曝光方法，其特征在于，

使所述長條基板沿所述長邊方向移動，是指使所述長條基板朝所述一方側以第一速度移動，

使所述圖案朝所述第一方向移動，是指使所述圖案朝所述第一方向中的與所述長邊方向的所述一方側光學地對應的一側以基于所述第一速度以及所述規定倍率的第二速度移動。