[實用新型]一種氮化硼-石墨烯復合材料結構有效
| 申請號： | 201120552133.1 | 申請日： | 2011-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN202996318U | 公開（公告）日： | 2013-06-12 |
| 發明（設計）人： | 金虎;彭鵬 | 申請（專利權）人： | 金虎 |
| 主分類號： | H01B5/00 | 分類號： | H01B5/00;H01B5/14;H01B1/04;H01B1/06 |
| 代理公司： | 北京北翔知識產權代理有限公司 11285 | 代理人： | 王媛;鐘守期 |
| 地址： | 201210 上海市浦東新*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氮化 石墨 復合材料 結構 | ||
1.一種氮化硼-石墨烯復合材料結構，其特征在于，其包含兩個單層氮化硼膜（8，10）和一個單層或多層石墨烯膜（9），其中所述石墨烯膜（9）位于兩個氮化硼膜（8，10）之間。?
2.根據權利要求1所述的復合材料結構，其特征在于，所述石墨烯膜（9）的厚度為0.35-10nm，所述氮化硼膜（8，10）的厚度為0.5-500nm。?
3.根據權利要求2所述的復合材料結構，其特征在于，所述石墨烯膜（9）的厚度為0.35-3nm。?
4.根據權利要求2所述的復合材料結構，其特征在于，所述石墨烯膜（9）的厚度為0.35-2.1nm。?
5.根據權利要求2所述的復合材料結構，其特征在于，所述氮化硼膜（8，10）的厚度為0.5-50nm。?
6.根據權利要求2所述的復合材料結構，其特征在于，所述氮化硼膜（8，10）的厚度為0.5-5nm。?
7.根據權利要求1所述的復合材料結構，其特征在于，所述氮化硼膜（8，10）和石墨烯膜（9）均通過CVD法制備。?
8.根據權利要求1所述的復合材料結構，其特征在于，所述氮化硼膜（8，10）和石墨烯膜（9）通過壓制或抽真空而結合在一起。?
9.根據權利要求1所述的復合材料結構，其特征在于，其還包含一個絕緣基底，該絕緣基底貼覆于其中一個氮化硼膜上。?
10.根據權利要求8所述的復合材料結構，其特征在于，所述絕緣基底可為無機絕緣材料或有機絕緣材料。?
11.根據權利要求8所述的復合材料結構，其特征在于，所述絕緣基底為透明絕緣基底。?
12.根據權利要求1所述的復合材料結構，其特征在于，所述氮化硼膜（8，10）和石墨烯膜（9）的大小與形狀相互匹配。?
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