[實(shí)用新型]線柵偏振片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120495136.6
• 申請(qǐng)日: 2011-12-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202433544U
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田中裕二;橫山宏
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 旭化成電子材料株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G02B5/30
• 分類(lèi)號(hào): G02B5/30
• 代理公司: 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 侯莉

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種能夠理想使用于液晶顯示器等的線柵偏振片。

背景技術(shù)

由于近年來(lái)的光刻技術(shù)的發(fā)達(dá)，能夠形成具有光的波長(zhǎng)級(jí)別的間距的微細(xì)結(jié)構(gòu)圖案。具有這樣非常小的間距的圖案的構(gòu)件、制品不僅在半導(dǎo)體領(lǐng)域，在光學(xué)領(lǐng)域其利用范圍也比較廣，是非常有用的。

例如，由金屬等構(gòu)成的導(dǎo)電體線以特定的間距排列成格子狀從而構(gòu)成線柵，如果其間距是比入射光小得多的間距(例如二分之一以下)，則幾乎使相對(duì)于導(dǎo)電體線平行振動(dòng)的電場(chǎng)矢量成分的光全部反射，幾乎使相對(duì)于導(dǎo)電體線垂直的電場(chǎng)矢量成分的光全部透過(guò)，因此能夠作為發(fā)出單一偏振光的偏振片使用。線柵偏振片由于能夠反射未透過(guò)的光并對(duì)其進(jìn)行再利用，因此從光的有効利用的觀點(diǎn)考慮，在顯示器的光源裝置等的用途上是非常理想的。

近年來(lái)，正在進(jìn)行開(kāi)發(fā)具有周期非常狹窄的格子狀凹凸結(jié)構(gòu)的玻璃基板的線柵偏振片。

例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了以下內(nèi)容：使透明介電體的膜堆積在透明玻璃基板的表面上，接下來(lái)，使用全息干涉光刻在光致抗蝕劑上形成微細(xì)的格子結(jié)構(gòu)，接下來(lái)，通過(guò)離子束刻蝕或反應(yīng)刻蝕將該結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到金屬膜上，在所述基板上形成平行的柵導(dǎo)電元件的陣列，其后，將該柵導(dǎo)電元件作為掩模對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，由此來(lái)制作支持導(dǎo)電元件的、具有周期非常狹窄的周期性的格子狀凹凸結(jié)構(gòu)的肋。但是，在玻璃基板應(yīng)用半導(dǎo)體工藝的制造方法具有缺乏生產(chǎn)率這樣的缺點(diǎn)。又，玻璃基板的線柵偏振片具有厚度大、重、容易破裂這樣的使用上的缺點(diǎn)。

專(zhuān)利文獻(xiàn)2中提出了以下這樣的方法，即，在厚度100μm的PC(聚碳酸酯)膜基板上，通過(guò)UV納米壓印技術(shù)，采用光固化性樹(shù)脂(東洋合成公司制、型號(hào)PAK01)形成樹(shù)脂覆膜來(lái)制造線柵偏振片的方法，但是采用專(zhuān)利文獻(xiàn)2所揭示的方法的話，就具有以下的問(wèn)題：由于光固化性樹(shù)脂的粘度高，緊貼壓模時(shí)光固化性樹(shù)脂的樹(shù)脂厚度容易變得不均勻，在納米壓印工序產(chǎn)生許多缺陷，而且還會(huì)做出在透過(guò)率、偏振性能上面內(nèi)偏差或批次間偏差大的制品。而且，包含PC等的樹(shù)脂膜基材的線柵偏振片還具有膜基材由于熱、濕度、光等的影響而發(fā)生分解、變形、或變色這樣的使用上的問(wèn)題。

專(zhuān)利文獻(xiàn)3中提出了一種線柵偏振片，其包含：樹(shù)脂基材、形成在所述基材上的厚度為0.01μm至20μm的范圍的樹(shù)脂覆膜、和形成在所述樹(shù)脂覆膜上的金屬線，將耐久性?xún)?yōu)異的TAC膜或COP膜作為基材，將向這些基材的浸透性高的光固化性樹(shù)脂作為樹(shù)脂覆膜的原料，使得基材和樹(shù)脂覆膜堅(jiān)固地粘結(jié)，由此提供一種在高溫高濕下的劣化小的線柵偏振片。并且，這樣的線柵偏振片，與專(zhuān)利文獻(xiàn)2相同地包含樹(shù)脂膜基材包覆的情況下，膜基材的特性由于熱、濕度、光等的影響而發(fā)生分解、變形或變色這樣的問(wèn)題無(wú)法避免。又，在移動(dòng)電話等薄型液晶用途上，要求有厚度極其薄的偏振片，但是也存在膜基材的厚度決定了線柵偏振片的厚度的下限的問(wèn)題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本專(zhuān)利特表2003-502708號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：日本專(zhuān)利特開(kāi)2008-145581號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)3：日本專(zhuān)利特開(kāi)2010-151850號(hào)公報(bào)

實(shí)用新型內(nèi)容

實(shí)用新型要解決的課題

本實(shí)用新型的目的在于提供一種與上述那樣的以往的線柵偏振片相比，在光學(xué)性能方面、低缺陷方面都良好、且能夠分離基材和樹(shù)脂覆膜的加工性可靠性?xún)?yōu)良的線柵偏振片。

解決課題的手段

本實(shí)用新型者進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在特定的基材上形成特定的樹(shù)脂覆膜，在該樹(shù)脂覆膜上形成金屬線而構(gòu)成的線柵偏振片改善了上述那樣的納米壓印工序中的問(wèn)題，還能夠在維持所述金屬線的結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下從線柵偏振片分離基材和覆膜，能夠以穩(wěn)定的品質(zhì)制造極其薄、大面積且加工性?xún)?yōu)良、可靠性?xún)?yōu)良的線柵偏振片，從而達(dá)成了本實(shí)用新型。

即，本實(shí)用新型如下所述。

1、一種線柵偏振片，其包含有基材、形成在所述基材上的樹(shù)脂覆膜，和形成在所述樹(shù)脂覆膜上的金屬線，其特征在于，所述線柵偏振片能夠在維持所述金屬線的結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下從該線柵偏振片分離所述基材。

2、如1所述的線柵偏振片，其特征在于，所述樹(shù)脂覆膜為0.005μm至3μm的厚度，所述基材與所述樹(shù)脂覆膜的剝離力為5N/25mm以下。