[實用新型]一種除氟烘干裝置

有效

• 申請號: 201120495110.1
• 申請日: 2011-11-25
• 公開（公告）號: CN202329039U
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 溫世光
• 申請（專利權）人: 廣東致遠新材料有限公司
• 主分類號: F26B21/00
• 分類號: F26B21/00;F26B25/00
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林;李志強

技術領域

本實用新型涉及一種烘干裝置，特別是涉及一種除氟烘干裝置。

背景技術

隨著激光技術的迅速發展，鉭鈮在激光全息照相、光存儲、微聲表面波技術方面的應用，對鉭酸鋰晶體和鈮酸鋰晶體的質量提出了更高要求；相應對鉭酸鋰、鈮酸鋰晶體的生產原料氧化鉭及氧化鈮產品中雜質含量有嚴格要求，產品中F^-離子由于在鉭酸鋰、鈮酸鋰晶體生長過程中會造成晶體微缺陷；降低產品中F^-離子含量是提高氧化鉭及氧化鈮產品質量的重要因素；本發明通過對氫氧化物烘干箱設備的改進，從而實現降低氧化鉭、氧化鈮產品中的F^-離子雜質含量。

采用液-液萃取分離法生產鉭鈮氧化物過程中，鉭液和鈮液分別以H2TaF7和H2NbF7(或H2NbOF5)形式存在，并含有一定量的游離HF和H2SO4，在用氨氣(液氨)中和過程中，發生F列反應：

H2TaF7+7NH3+5H2O＝Ta(OH)5↓+7NH4F

H2NbF7+7NH3+5H20＝Nb(OH)5↓+7NH4F

H2NbOF5+5NH3+5H2O＝Nb(OH)5↓+5NH4F

HF+NH3＝NH4F

H2SO4+2NH3＝(NH4)SO4

在Ta(OH)5、Nb(OH)5形成非晶體沉淀時，表現為絮狀沉淀物，極易吸附溶液中的雜質(F^-、SO4^2-)，造成氧化鉭、氧化鈮產品中的F離子很難洗滌，為此對氧化鉭、氧化鈮產品進行脫氟需要通過控制沉淀方式、物料洗滌、烘干與煅燒三道工序，才能保證產品中F^-離子含量滿足用戶要求；用氨氣(液氨)中和沉淀鉭、鈮液生產氧化鉭、氧化鈮工藝流程，氧化鉭或氧化鈮產品脫氟的主要工序有：第一、控制沉淀，中和沉淀PH值控制、反應溫度控制、通氨速度調整和停放時間的控制；第二、物料洗滌，將沉淀的水合氧化物加水調洗，調洗洗氟過程一般采用熱稀氨水(65-90℃)洗滌，有時采用冷氨水洗滌；第三、烘干與煅燒，調洗得到的濾餅，在烘干箱120-250℃烘48小時，然后在800-1050℃條件下進行煅燒。上述三道工序中，物料的洗滌是降低產品F^-離子的關鍵工序。

缺點是：洗滌過程F^-離子是無限稀釋的過程，洗滌次數往往需要8-10次，要消耗大量的加熱稀氨水，而高純氧化鉭、氧化鈮產品中對雜質F^-含量要求較低，生產過程中洗滌周期長，產品中雜質F^-含量波動較大。(見附表：高純氧化鉭、氧化鈮產品國家標準)。

附表：高純氧化鉭、氧化鈮產品國家標準GB/T10578?2003????(PPm)

導致原因：在Ta(OH)5、Nb(OH)5形成非晶體沉淀時，得到絮狀沉淀物，極易吸附溶液中的雜質元素，F-離子主要是形成NH4F.XNH3絡合物形式存在，絮狀沉淀物中包裹的雜質元素NH4F.XNH3絡合物不易進入水溶液，造成洗滌效率不高。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種除氟烘干裝置，能有效降低氧化鉭、氧化鈮產品中的F^-離子，降低了生產成本，且節能環保。

為了達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種除氟烘干裝置，包括通過輸送管相連的蒸汽除氟烘干箱及淋洗回收裝置，所述裝置還包括蒸汽發生器，且蒸汽發生器與蒸汽除氟烘干箱底部的蒸汽入口相連，在蒸汽除氟烘干箱與淋洗回收裝置之間設置有一真空抽風裝置。

蒸汽發生器與蒸汽入口之間設置有一蒸汽凈化裝置，蒸汽凈化裝置的兩側各設置有一止回閥。

淋洗回收裝置的外部設置有一循環水泵，淋洗回收裝置的頂部設置有-廢氣出口。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：第一、在蒸汽除氟烘干箱的蒸汽入口處設置一蒸汽發生器，在確保烘干箱烘干溫度條件下，間斷地通入經過凈化的蒸汽，保證待烘干物升華產生的氣體及時排出，間斷的保持物料的濕度；第二、在蒸汽發生器與蒸汽除氟烘干箱之間增設一蒸汽凈化裝置，能有效防止產品的污染，凈化產品；第三、在蒸汽除氟烘干箱與淋洗回收裝置之間設置一真空抽風裝置，使得蒸汽除氟烘干箱處于負壓狀態，有助于待烘干物的升華，提高升華速度。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；