[實用新型]用于印制電路板曝光的高分辨率投影光學系統有效

申請號：	201120489244.2	申請日：	2011-12-01
公開（公告）號：	CN202383418U	公開（公告）日：	2012-08-15
發明（設計）人：	李文靜;劉文海;何少鋒;張昌清	申請（專利權）人：	合肥芯碩半導體有限公司
主分類號：	G03F7/20	分類號：	G03F7/20
代理公司：	合肥金安專利事務所 34114	代理人：	徐偉
地址：	230601 安***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	用于印制電路板曝光高分辨率投影光學系統
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【權利要求書】：

1.用于印制電路板曝光的高分辨率投影光學系統，包括曝光光源、光束整形模塊、反光鏡、圖形發生器或掩模板、成像鏡和載物臺；其特征在于：所述成像鏡由上透鏡組模塊、光闌和下透鏡組模塊組成；所述上透鏡組模塊從上至下依次設有上雙面凸透鏡、上彎月透鏡和上凹透鏡；所述下透鏡組模塊從下至上依次設有下雙面凸透鏡、下彎月透鏡和下凹透鏡；成像鏡設置在圖形發生器下方的光路中心。

2.根據權利要求1所述的用于印制電路板曝光的高分辨率投影光學系統，其特征在于：所述成像鏡設置在掩模板下方的光路中心。

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