[實用新型]一種單晶爐用石墨坩堝

有效

• 申請號: 201120472322.8
• 申請日: 2011-11-24
• 公開（公告）號: CN202390567U
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 張長百
• 申請（專利權）人: 北京北方鑫源電碳制品有限責任公司
• 主分類號: C30B15/10
• 分類號: C30B15/10
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368
• 代理人: 孫國棟

技術領域

本實用新型涉及一種單晶爐用石墨坩堝，適用于大直徑直拉硅單晶棒的制造，屬于石墨坩堝技術領域。

背景技術

隨著經濟的發展，人類社會面臨著能源短缺和環境污染兩大難題的困擾。為了解決能源短缺和環境污染的問題，一些新興能源走入人們的視野，比如：風能、太陽能和光伏發電等。尤其是光伏發電這一新興能源憑借其無污染、無噪音、維修簡單、無生產原料等特點，越來越受到人們的青睞。太陽能電池用的單晶硅，是這一產業中的重要一環。單晶硅的生產一般采用直拉法的生產工藝，在此工藝中，單晶爐是其中重要的生產設備，石墨坩堝是單晶爐中的主發熱體，供給直拉法生產工藝所需的熱量，由于生產的硅單晶的直徑的不斷增大，所需的單晶爐熱場的直徑也不斷增大，導致石墨坩堝的重量不斷增加。再加上目前使用的石墨坩堝結構簡單、傳熱效率低、加熱時間長、能耗高等特點，所以急需改進現有技術。

發明內容

本實用新型的目的在于克服現有技術中的不足之處，提供一種傳熱效率高、加熱迅速、加熱時間短、能耗低的石墨坩堝。

為了實現本實用新型的目的，本實用新型所采用的技術方案是：

一種單晶爐用石墨坩堝，由圓筒狀的坩堝本體構成，其特征在于：坩堝本體由兩瓣或三瓣塊體組成，坩堝本體外表面具有間隔均勻且深度相同的小凹穴。

所述的小凹穴呈半圓形、方形或螺紋形，其深度范圍：1mm至坩堝本體壁厚的一半。

有益效果

本實用新型通過增加石墨坩堝外表面的面積來提高石墨坩堝的傳熱面積，采用本實用新型的技術方案，可以增加石墨坩堝外表面的面積一倍，以此來達到提高傳熱量，提高加熱時間和速度，降低能耗的目的。

附圖說明

圖1是本實用新型的仰視圖；

圖2是本實用新型的結構示意圖；

1為坩堝本體；2為小凹穴。

具體實施方式

結合附圖，對本實用新型做進一步的說明。

如圖1所示，石墨坩堝由圓筒狀的坩堝本體構成，坩堝本體由兩瓣或三瓣塊體組成，當坩堝本體尺寸小時，采用兩瓣塊體的方式制成坩堝，當坩堝尺寸大時，采用三瓣塊體的方式制成坩堝。將兩瓣或三瓣塊體在接口處固定且密封連接組成坩堝本體。

將坩堝本體的外表面加工成具有間隔均勻且深度相同的小凹穴，小凹穴的深度1mm至坩堝本體壁厚的一半，該深度不會影響坩堝本體的質量，但是，坩堝本體的自身重量降低了。小凹穴的截面形狀可以是任意形狀，為了便于加工和增加坩堝本體外表面的受熱面積，我們一般采用半圓形、方形或螺紋形。