[實用新型]在選擇性催化還原反應脫硝裝置中噴入氨氣的裝置

有效

• 申請號: 201120445998.8
• 申請日: 2011-11-13
• 公開（公告）號: CN202315701U
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 張彥軍;于龍;王鳳君;姜孝國;付興金;張志偉;孫藝心
• 申請（專利權）人: 哈爾濱鍋爐廠有限責任公司
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/56
• 代理公司: 哈爾濱東方專利事務所 23118
• 代理人: 陳曉光

1.一種在選擇性催化還原反應脫硝裝置中噴入氨氣的裝置，其組成包括：脫硝反應器入口煙道，其特征是：所述的脫硝反應器入口煙道內裝有一組噴氨柵格入口集箱，所述的噴氨柵格入口集箱連接短噴管和長噴管，所述的長噴管固定在擋灰板上，所述的短噴管連接入口法蘭、所述的短噴管上連接氨氣流量調節閥，所述的短噴管與所述的長噴管均連接一組氨氣噴嘴。

2.根據權利要求1所述的在選擇性催化還原反應脫硝裝置中噴入氨氣的裝置，其特征是：在所述的脫硝反應器入口集箱的入口法蘭前設置所述的氨氣流量調節閥，每個所述的入口集箱上連接兩個所述的長噴管及兩個所述的短噴管，所述的長噴管及所述的短噴管端部通過焊接與所述的入口集箱連接，在所述的長噴管及所述的短噴管上焊接有一組所述的氨氣噴嘴，在所述的長噴管的下方即相灰面焊接所述的擋灰板。