[實用新型]一種電弧離子鍍膜設備的引弧桿有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120440828.0 | 申請日: | 2011-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN202401122U | 公開(公告)日: | 2012-08-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇東藝 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州今泰科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 譚英強 |
| 地址: | 510730 廣東省廣州市蘿崗區(qū)高新*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電弧 離子 鍍膜 設備 引弧桿 | ||
技術(shù)領域
本實用新型涉及一種電弧離子鍍膜設備,特別是涉及一種用于電弧離子鍍膜設備中連接固定引弧針的引弧桿。
背景技術(shù)
在電弧離子鍍膜設備中,引弧桿帶著其前端的引弧針穿過起密封作用的骨架封膠伸進真空室內(nèi),隨著引弧針的工作進行,引弧針的溫度升高,引弧桿的溫度也隨之升高,使得引弧桿在工作狀態(tài)時一直處于高溫狀態(tài)。引弧桿的高溫也讓其連接的骨架封膠處于高溫的狀態(tài)下,加速了骨架封膠的老化變硬,密封性下降,從而導致真空室真空狀態(tài)的不穩(wěn)定性,影響到鍍膜質(zhì)量。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種防止引弧針熱傳遞的引弧桿,其可有效防止安裝在引弧桿上的骨架封膠在高溫下老化的現(xiàn)象。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種電弧離子鍍膜設備的引弧桿,包括桿身,所述桿身內(nèi)部設有流體流通通道,在桿身上還設有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。
進一步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述桿身一端端面上設置有盲孔,所述盲孔內(nèi)設置有隔片,所述隔片將盲孔分隔為互相連通的第一腔和第二腔,所述第一腔和第二腔構(gòu)成流體流通通道。
進一步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述桿身設置盲孔的一端還設有密封蓋,所述進料孔設置在桿身側(cè)壁上,連通所述第一腔,所述出料孔設置在桿身側(cè)壁上,連通所述第二腔。
進一步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述隔片固定連接于桿身設有盲孔的一端。
進一步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述進料孔和出料孔設置在靠近桿身設有盲孔一端的側(cè)壁上。
本實用新型的有益效果:本實用新型通過在桿身設置流體流通通道,并在桿身設置連通流體流通通道的進料孔和出料孔,可從進料孔向流體流通通道中加入流體,該流體可與工作狀態(tài)下地引弧桿做熱交換,使得引弧桿能工作在較低的溫度,防止引弧桿的溫度過高影響與其連接的骨架膠封的密封性,保證電弧離子鍍膜設備的真空室處于穩(wěn)定的真空狀態(tài)。?
本實用新型可作為引弧桿適用于電弧離子鍍膜設備中。
附圖說明
圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本實用新型側(cè)視圖。
具體實施方式
參照圖1和圖2,一種電弧離子鍍膜設備的引弧桿,包括桿身,所述桿身內(nèi)部設有流體流通通道,在桿身上還設有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。
作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,參照圖1和圖2,所述桿身1一端端面7上設置有盲孔2,所述盲孔內(nèi)設置有隔片3,所述隔片3將盲孔2分隔為互相連通的第一腔8和第二腔9,所述第一腔8和第二腔9構(gòu)成流體流通通道,可向流體流通通道加入水、油或者其他流體,與桿身1作熱交換使其保持在較低的溫度。
作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述桿身1設置盲孔2的一端還設有密封蓋4,所述進料孔5設置在桿身1側(cè)壁上,連通所述第一腔8,所述出料孔6設置在桿身1側(cè)壁上,連通所述第二腔9,用密封蓋4封閉盲孔2后,在桿身上設置連通第一腔8的進料孔5和連通第二腔9的出料孔6,使得進料孔5、第一腔8、第二腔9和出料孔構(gòu)成流體流通通道。
作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述隔片3固定連接于桿身1設有盲孔2的一端,使隔片3在工作時不發(fā)生偏轉(zhuǎn),其構(gòu)成的流體流通通道保持暢順。
作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述進料孔8和出料孔9設置在靠近桿身1設有盲孔一端的側(cè)壁上,增加流體流通通道的長度,使桿身1和流體進行充分的熱交換,使桿身1保持在較低的溫度。
在電弧離子鍍膜設備工作時,隨著引弧針溫度的升高,引弧桿的溫度隨著升高,可從流體存放容器向進料孔5加入水、油或者其他流體,流體在通過進料腔8和出料腔9時,與引弧桿做熱交換,從出料孔6流出,流體經(jīng)冷卻后回到冷媒存放容器,如此循環(huán),形成一個冷卻循環(huán)回路,使得引弧桿在工作時處于較低的工作溫度,減少對與其連接的骨架膠封的密封性,保證電弧離子鍍膜設備的真空室處于穩(wěn)定的真空狀態(tài)。
當然,本實用新型創(chuàng)造并不局限于上述實施方式,熟悉本領域的技術(shù)人員在不違背本實用新型精神的前提下還可作出等同變形或替換,這些等同的變型或替換均包含在本申請權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣州今泰科技有限公司,未經(jīng)廣州今泰科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201120440828.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種激光熔覆多路同步送粉器
- 下一篇:一種液壓開口機
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





