[實(shí)用新型]耐高過載高靈敏度平面電極結(jié)構(gòu)熱釋電探測(cè)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120420309.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202281652U | 公開(公告)日: | 2012-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 太云見;袁俊;信思樹;龔曉霞;何雯瑾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆明物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J5/10 | 分類號(hào): | G01J5/10;G01J5/02 |
| 代理公司: | 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 53115 | 代理人: | 賽曉剛 |
| 地址: | 650223 云*** | 國(guó)省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 過載 靈敏度 平面 電極 結(jié)構(gòu) 熱釋電 探測(cè)器 | ||
1.耐高過載高靈敏度平面電極結(jié)構(gòu)熱釋電探測(cè)器,其特征在于:在熱釋電晶片(2)的下表面上制備一層全反射電極(1),在全反射電極的下表面上制備一層絕熱層(7),絕熱層的下表面與襯底(5)用粘接膠(6)粘接;在熱釋電晶片的上表面的中心位置制備紅外吸收層(3),從紅外吸收層引出金絲引線(4);在熱釋電晶片的上表面、紅外吸收層的周圍制備一層引出電極(9),引出電極與紅外吸收層之間不相連接,引出電極引出金絲引線。
2.按照權(quán)利要求1所述的熱釋電探測(cè)器,其特征在于:紅外吸收層(3)是半透明電極(3a)與二氧化硅膜(3b)構(gòu)成的兩層復(fù)合結(jié)構(gòu),從紅外吸收層的半透明電極引出金絲引線(4)。
3.按照權(quán)利要求1所述的熱釋電探測(cè)器,其特征在于:熱釋電晶片(2)的厚度為10微米左右;全反射電極(1)采用鎳鉻材料或者采用鉻金金屬膜,厚度在2000A以上;絕熱層(7)采用多孔二氧化硅材料或者采用環(huán)氧型有機(jī)薄膜,厚度為2微米左右;襯底(5)采用玻璃、硅、藍(lán)寶石或者陶瓷材料;絕熱層與襯底的粘接膠(6)用光學(xué)膠。
4.按照權(quán)利要求1或2所述的熱釋電探測(cè)器,其特征在于:在半透明電極(3a)的上表面上制備的二氧化硅膜(3b)的厚度為1.5微米左右;引出電極(9)為鉻金電極,厚度在5000A以上。
5.按照權(quán)利要求1或2所述的熱釋電探測(cè)器,其特征在于:紅外吸收層(3)是半透明電極(3a)與有機(jī)薄膜構(gòu)成的兩層復(fù)合結(jié)構(gòu),從半透明電極引出金絲引線(4)。
6.按照權(quán)利要求1所述的熱釋電探測(cè)器,其特征在于:紅外吸收層(3)是吸收層全反射電極(3d)、介質(zhì)層(3c)和半透明電極(3a)構(gòu)成的三層復(fù)合結(jié)構(gòu),從吸收層全反射電極引出金絲引線(4)。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆明物理研究所,未經(jīng)昆明物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201120420309.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





