[實用新型]一種薄膜結構有效
| 申請號： | 201120406921.X | 申請日： | 2011-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN202388966U | 公開（公告）日： | 2012-08-22 |
| 發明（設計）人： | 李書銘;吳家銘;蔡國龍;王順程 | 申請（專利權）人： | 岱緯科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B41M5/00 | 分類號： | B41M5/00;B32B27/06;B32B27/18 |
| 代理公司： | 廣州中浚雄杰知識產權代理有限責任公司 44254 | 代理人： | 張少君 |
| 地址： | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 薄膜 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種薄膜結構，所述薄膜結構包括有：
一基層；
一適刮層，所述適刮層設于基層一表面，且適刮層遠離基層的另一表面形成有刷紋；
一離型層，所述離型層設于適刮層具有刷紋的表面；
一硬鍍層，所述硬鍍層設于離型層另一表面并遠離所述適刮層；
一裝飾層，所述裝飾層設于硬鍍層另一表面并遠離所述離型層；及
一黏著層，所述黏著層設于裝飾層另一表面并遠離所述硬鍍層。
2.根據權利要求1所述的一種薄膜結構，其特征在于：所述適刮層包含有微米級的粒子的高分子涂層。
3.根據權利要求1所述的一種薄膜結構，其特征在于：所述適刮層其厚度可為3～7um。
4.根據權利要求1所述的一種薄膜結構，其特征在于：所述適刮層的刷紋深度為1～10um。
5.根據權利要求4所述的一種薄膜結構，其特征在于：所述適刮層的刷紋深度為2～6um。
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