[實(shí)用新型]顯影盒以及成像裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120402793.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202230305U | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳連俊;曹玉兵 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 珠海賽納打印科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03G15/08 | 分類號(hào): | G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 劉芳 |
| 地址: | 519075 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 以及 成像 裝置 | ||
1.一種顯影盒,其特征在于,包括:
顯影盒殼體,所述顯影盒殼體上設(shè)置有與其配合的零部件;
密封結(jié)構(gòu),所述密封結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述顯影盒殼體與所述零部件之間;
所述密封結(jié)構(gòu)包括:設(shè)置在所述顯影盒殼體上并具有凸凹結(jié)構(gòu)的接觸部,以及壓設(shè)在所述接觸部上的密封件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影盒,其特征在于,所述顯影盒殼體包括粉倉(cāng)殼體;
所述粉倉(cāng)殼體上設(shè)置有碳粉限制元件和顯影元件,其中,所述顯影元件的兩端旋轉(zhuǎn)設(shè)置在所述粉倉(cāng)殼體的端部;所述碳粉限制元件固設(shè)在所述粉倉(cāng)殼體上,并沿所述顯影元件軸向方向彈性抵壓在所述顯影元件上;
所述密封結(jié)構(gòu)位于粉倉(cāng)殼體與碳粉限制元件和/或顯影元件之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影盒,其特征在于,所述顯影盒殼體包括廢粉倉(cāng)殼體,所述廢粉倉(cāng)殼體上設(shè)置清潔刮刀和清潔刮片,所述密封結(jié)構(gòu)位于廢粉倉(cāng)殼體與清潔刮刀和/或清潔刮片之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影盒,其特征在于,所述粉倉(cāng)殼體的端部與所述顯影元件相對(duì)的位置設(shè)置有凹槽,所述凹槽內(nèi)的上下表面均為凸凹結(jié)構(gòu)的接觸面,所述凹槽內(nèi)壓設(shè)有密封件,所述密封件與所述凸凹結(jié)構(gòu)的接觸面過盈配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯影盒,其特征在于,所述廢粉倉(cāng)殼體的端部與所述清潔刮刀和/或清潔刮片對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置有凹槽,所述凹槽內(nèi)的上下表面均為凸凹結(jié)構(gòu)的接觸面,所述凹槽內(nèi)壓設(shè)有密封件,所述密封件與所述凸凹結(jié)構(gòu)的接觸面過盈配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的顯影盒,其特征在于,所述凸凹結(jié)構(gòu)為齒狀結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯影盒,其特征在于,所述凸凹結(jié)構(gòu)的接觸部包括:沿所述顯影盒殼體縱向方向設(shè)置的多個(gè)齒,所述齒由相交為θ角度的兩個(gè)面構(gòu)成,所述θ范圍是15°≤θ≤75°。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯影盒,其特征在于,所述θ范圍是30°≤θ≤60°。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯影盒,其特征在于,所述構(gòu)成齒的兩個(gè)面中遠(yuǎn)離顯影盒殼體端部的面垂直于顯影盒殼體縱向方向。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯影盒,其特征在于,遠(yuǎn)離所述顯影盒殼體的端部的齒高度不大于靠近所述顯影盒殼體的端部的齒的高度。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯影盒,其特征在于,所述凸凹結(jié)構(gòu)的根部具有生長(zhǎng)面,所述生長(zhǎng)面與所述顯影盒殼體縱向方向呈一傾斜角α,使得所述凸凹結(jié)構(gòu)的上下表面之間的距離隨著靠近所述顯影盒殼體的端部而逐漸減小,其中所述α的范圍為α≤45°。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯影盒,其特征在于,所述α的范圍為5°≤α≤15°。
13.一種成像裝置,包括成像裝置主體和顯影盒,其特征在于,所述顯影盒為采用上述權(quán)利要求1-12任一所述的顯影盒。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
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