[實(shí)用新型]一種設(shè)有階梯調(diào)焦標(biāo)記的調(diào)焦調(diào)平裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120400413.0
• 申請(qǐng)日: 2011-10-20
• 公開（公告）號(hào): CN202257032U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉廣義;韓曉泉;王宇;周翊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院光電研究院
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 周長(zhǎng)興

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種用于投影光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平裝置，特別是具有光柵和參考光柵的調(diào)焦調(diào)平裝置。?

背景技術(shù)

投影光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平裝置其光線入射角很大，很難保障每個(gè)測(cè)量點(diǎn)在硅片上清晰成像，進(jìn)而影響測(cè)量精度。為此CANON公司US?5414515專利中用補(bǔ)償光學(xué)的方法實(shí)現(xiàn)每個(gè)測(cè)量點(diǎn)清晰成像；NIKON公司US5602399專利中利用傾斜棱鏡的方法；SMEE公司CN?101477319A中采用傾斜掩模板設(shè)計(jì)；CN?100559278C中采用反射階梯棱鏡的方法；北理工CN?100592214C中采用微透鏡陣列的方法實(shí)現(xiàn)。這些方法雖然能實(shí)現(xiàn)每個(gè)測(cè)量點(diǎn)清晰成像，但是有結(jié)構(gòu)復(fù)雜，裝調(diào)困難等缺點(diǎn)。?

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種調(diào)焦調(diào)平裝置，使每個(gè)測(cè)量點(diǎn)都能清晰成像，保證測(cè)量的精度和穩(wěn)定性。?

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的用于投影光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)裝置，包含照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)，其中：照明系統(tǒng)中的照明光柵和成像系統(tǒng)中的參考光柵均為具有高度差的階梯狀光柵；階梯光柵經(jīng)過(guò)成像系統(tǒng)后，像面也是階梯狀，使調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)每個(gè)測(cè)量點(diǎn)都在硅片上清晰成像。?

所述的調(diào)焦調(diào)平裝置，其中，照明光柵和參考光柵的階梯數(shù)與硅片水平方向的測(cè)量點(diǎn)數(shù)相同。?

所述的調(diào)焦調(diào)平裝置，其中，照明光柵的光路上安裝有照明系統(tǒng)反射鏡，照明光柵的成像通過(guò)照明系統(tǒng)反射鏡照射在待測(cè)量的硅片上。?

所述的調(diào)焦調(diào)平裝置，其中，參考光柵的光路上安裝有成像系統(tǒng)反射?鏡，參考光柵通過(guò)成像系統(tǒng)反射鏡接收硅片的反射光。?

本實(shí)用新型采用階梯式調(diào)焦標(biāo)記，將光柵安裝在階梯棱鏡或階梯式鏡架上，同時(shí)參考光柵也同樣為階梯式標(biāo)記，由此，可以簡(jiǎn)化光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和調(diào)試難度。?

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型具有階梯狀光柵的調(diào)焦調(diào)平裝置光路示意圖。?

圖2為階梯狀光柵成像光路示意圖。?

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參閱圖1和圖2所示。本實(shí)用新型的調(diào)焦調(diào)平裝置是用于投影光刻機(jī)12上，調(diào)焦調(diào)平裝置包含：照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)，本實(shí)用新型的特征是采用具有高度差的階梯狀光柵作為調(diào)焦標(biāo)記和參考標(biāo)記。?

調(diào)焦調(diào)平裝置的照明系統(tǒng)由寬光譜光源1和照明透鏡2組成，寬光譜光源1可以是鹵素?zé)艋蚨囝wLED組成，照明透鏡2是科勒照明系統(tǒng)，為了得到均勻的照明效果，具有高度差的階梯狀照明光柵3被光源照明后，通過(guò)照明系統(tǒng)投影物鏡4成像在硅片6上，經(jīng)硅片6反射后經(jīng)過(guò)成像系統(tǒng)投影物鏡8成像在成像系統(tǒng)中的參考光柵9上，與照明光柵3一樣，參考光柵9也同樣具有階梯狀結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型的階梯狀光柵的階梯數(shù)要滿足檢測(cè)硅片上水平方向的測(cè)量點(diǎn)的數(shù)量。照明光柵3和參考光柵9形成莫爾條紋，探測(cè)器11通過(guò)探測(cè)光路10探測(cè)到莫爾條紋的強(qiáng)度，通過(guò)莫爾條紋強(qiáng)度的變化得到硅片位置信息。?

本實(shí)用新型的特征是用階梯狀光柵代替?zhèn)鹘y(tǒng)平面光柵，階梯光柵經(jīng)過(guò)成像系統(tǒng)后，像面也是階梯的，這種就能夠保證調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)每個(gè)測(cè)量點(diǎn)都在硅片上清晰成像，避免了硅片傾斜對(duì)調(diào)焦調(diào)平精度的影響。?

在此說(shuō)明的是，圖1所示是本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，其目的是縮小調(diào)焦調(diào)平裝置的體積，為此，將照明系統(tǒng)和成像系統(tǒng)分別置于投影光刻機(jī)投影物鏡12的兩側(cè)，并在照明系統(tǒng)投影物鏡4與硅片6之間的光路上，以及硅片6與成像系統(tǒng)投影物鏡8的光路上各安裝一反射鏡5和7。由此照明光柵的成像反射在硅片6上，硅片6上的反射光反射到參考光柵9上。?按照公知技術(shù)，也可以不安裝上述兩個(gè)反射鏡。因此圖1所示的調(diào)焦調(diào)平裝置不會(huì)對(duì)本實(shí)用新型形成限制。?