[實用新型]金屬板帶立式真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201120389212.5
• 申請日: 2011-10-13
• 公開（公告）號: CN202265604U
• 公開（公告）日: 2012-06-06
• 發明（設計）人: 陳軍;趙耀強;桑洪波;宋立文;馮德順
• 申請（專利權）人: 金川集團有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 甘肅省知識產權事務中心 62100
• 代理人: 唐瑤

技術領域

本實用新型屬于一種金屬板帶連續真空鍍膜設備，尤其涉及一種立式金屬板帶連續真空鍍膜設備。

技術背景

目前，金屬板帶連續真空鍍膜設備在鍍膜過程中表面質量和附著率是鍍膜產品的重要參數及指標。傳統的金屬板帶連續真空鍍膜為平面式鍍膜，金屬板帶是在水平面上，在濺射靶的作用下進行表面鍍膜，在鍍膜過程中存在穩定性不好或表面質量掉渣的問題。

傳統的鍍膜方式有兩種，第一種鍍膜方式是靶材位于金屬板帶的上方，由于靶材在鍍膜生產過程中在離子轟擊的作用下，會產生物理碰撞沖擊能和由于物理碰撞所產生的熱應力，使靶材表面的金屬顆粒不均勻散落，導致金屬板帶表面產生雜質。在鍍膜過程中這些大顆粒沉積在金屬膜表面，在通過上下托輥時，顆粒被吸附在托輥表面，導致在散落顆粒處形成斑點。

第二種鍍膜方式是靶材位于金屬板帶的下方，這樣有效避免了靶材上的靶材顆粒散落到金屬板帶表面。但在此種情況下，濺射出的金屬粒子在電場、磁場及重力的綜合作用，其垂直方向上的動能很多被重力所抵消，導致金屬粒子動能不足。經檢驗，在這種方式下薄膜與金屬板帶的結合強度弱，薄膜自身致密性不夠，不能達到長期使用和適應惡劣環境的要求。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種結構緊湊、有效去除金屬板帶表面缺陷、提高金屬板帶表面質量的金屬板帶立式真空鍍膜設備。

為實現上述目的，本實用新型采取的技術方案是：

一種金屬板帶立式真空鍍膜設備，包括金屬板帶、設備本體、磁控濺射靶和水平托輥，所述磁控濺射靶垂直設置在所述設備本體的側板上，與豎直方向平行；所述金屬板帶沿垂直方向輸送。

????所述水平托輥下方的所述設備本體的底座上設有垂直傳動輥，每個水平托輥與所述垂直傳動輥之間形成有所述金屬板帶的基本垂直傳送段，與所述基本垂直輸入段相適配的位置設有固定在所述設備本體側板上的所述磁控濺射靶。

????所述基本垂直傳送段與垂直方向的夾角為2°～3°。

使用本實用新型的提供的金屬板帶立式真空鍍膜設備，有效縮短了生產線的長度，使生產線更加結構緊湊，減少了在抽真空過程中的管道的長度，有利于真空環境的形成。而且，改變了金屬板帶的傳動方向，在垂直方向對金屬板帶進行濺射鍍膜，有效地杜絕了濺射靶在濺射過程中掉落的大顆粒靶材在金屬板帶表面形成的缺陷，增強了薄膜與金屬板帶的結合強度。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖中，1-金屬板帶，2-水平托輥，3-磁控濺射靶，4-垂直傳動輥，5-設備本體，6-基本垂直段，7-基本垂直段。

具體實施方式

下面結合具體實施例及其附圖對本實用新型作進一步說明。

如圖1所示，一種金屬板帶立式真空鍍膜設備，包括金屬板帶1、設備本體5、磁控濺射靶3、水平托輥2和垂直傳動輥4，磁控濺射靶3垂直安裝在設備本體5的側板上，與豎直方向平行，作為濺射源對金屬板帶1的表面進行鍍膜。

在水平托輥2下方的設備本體5的底座上安裝有垂直傳動輥4，每個水平托輥2與垂直傳動輥4之間形成有金屬板帶1的基本垂直傳送段6和基本垂直傳送段7，與基本垂直傳送段6和基本垂直傳送段7的中間位置相對應的設備本體5的側板上安裝有磁控濺射靶3。基本垂直傳送段6和基本垂直傳送段7與垂直方向的夾角為2°～3°。

水平托輥2的直徑為Φ150mm，水平托輥中心距為380mm；磁控濺射靶材3的長×寬的尺寸為1400mm×300mm。垂直傳動輥4的直徑為Φ300mm，垂直傳動輥4由電機同步傳動，安裝水平托輥2下方800mm的位置上，這樣才能保證金屬板帶1的基本垂直傳送段6和基本垂直傳送段7與磁控濺射靶平面之間形成夾角2°～3°。這樣的夾角位置，有利于磁控濺射靶材3在對金屬板帶進行濺射鍍膜時，薄膜與金屬基材的結合最高。

垂直傳動輥4主要的作用是支撐金屬板帶，并改變金屬板帶1的傳動方向，創造立式鍍膜的條件。立式結構可以有效縮短生產線的長度，使生產線更加結構緊湊，而且減少了在抽真空過程中的管道的長度，有利于真空環境的形成。

金屬板帶1在放卷后經過活套和清洗工序后進入真空鍍膜系統，金屬板帶1經過水平托輥2、繞過垂直傳動輥4，由水平進給改為垂直進給，安裝在真空鍍膜系統的側壁上的磁控濺射靶3，從基本垂直位置的方向對金屬板帶1的表面進行鍍膜，有效地杜絕了濺射靶在濺射過程中掉落的大顆粒靶材在金屬板帶表面形成的缺陷，增強了薄膜與金屬板帶的結合強度。

以上所述的僅是本實用新型的較佳實施例，并不局限本實用新型。應當指出對于本領域的普通技術人員來說，在本實用新型所提供的技術啟示下，還可以做出其它等同變型和改進，均可以實現本實用新型的目的，都應視為本實用新型的保護范圍。