[實用新型]真空鍍鋁設備中蒸發(fā)器水循環(huán)系統(tǒng)的防漏水結構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120387447.0
• 申請日: 2011-10-12
• 公開（公告）號: CN202272946U
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發(fā)明（設計）人: 洪曉冬;王德松
• 申請（專利權）人: 上海永超真空鍍鋁有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/14
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 胡美強

1.一種真空鍍鋁設備中蒸發(fā)器水循環(huán)系統(tǒng)的防漏水結構，其特征在于，其包括本體、第一密封墊圈、兩個以上的第二密封墊圈，側(cè)板設有一個中心凹槽，第一密封墊圈位于中心凹槽內(nèi)，本體的兩側(cè)設有至少兩個凹槽，第二密封墊圈位于本體的兩側(cè)凹槽內(nèi)，第二密封墊圈的直徑小于第一密封墊圈的直徑。

2.如權利要求1所述的真空鍍鋁設備中蒸發(fā)器水循環(huán)系統(tǒng)的防漏水結構，其特征在于，所述本體設在一個底板和一個側(cè)板之間。