[實用新型]光刻膠涂布機承載系統及具有該系統的光刻膠涂布機

有效

• 申請號: 201120387170.1
• 申請日: 2011-10-12
• 公開（公告）號: CN202257027U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 張志豪
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 歐陽啟明

技術領域

本實用新型涉及一種光刻膠涂布機承載系統，更具體地說，涉及一種使用真空泵浦抽氣的光刻膠涂布機承載系統及相應的光刻膠涂布機。

背景技術

TFT-LCD(薄膜場效應晶體管-液晶顯示器)在生產過程中經常會有光斑MURA(玻璃基板上光刻膠顏色不均勻的現象)的產生，CF(Color?Filter：彩色濾光片)工藝中光刻膠涂布機為主要的生產機臺，光刻膠涂布機在工作的過程中由于使用真空泵浦抽氣容易在玻璃基板表面產生光斑，其中由于真空泵浦產生的氣泡造成的光斑最為嚴重。

真空泵浦產生的氣泡造成光斑的原因為光刻膠內含有顏料、溶劑以及粘接劑等，玻璃基板經過噴嘴涂布光刻膠后，呈現不穩定的狀態。在真空泵浦抽氣的過程中，光刻膠涂布機內的容納空間通過真空泵浦抽氣的動作形成負壓，玻璃基板上的光刻膠內的溶劑會被形成的負壓氣流帶走，負壓形成瞬間的氣流強弱，往往是真空泵浦造成光斑的關鍵。

如圖1所示，光刻膠涂布機包括泵100、抽氣閥190、支撐針120、承載托盤130、頂板140以及底板150，使用時，將頂板140打開，將帶涂布光刻膠的玻璃基板110放置在支撐針120上，然后再將頂板140和底板150閉合形成一個容納空間，當要抽氣時，將抽氣閥190打開，泵100就會對容納空間進行抽氣操作。現在一般采用墊高塊160來墊高玻璃基板110以減小玻璃基板110和頂板140之間的距離，進而減小負壓氣流來減弱或消除光斑的產生。但是使用墊高塊160具有以下幾個缺陷：

1、必須將光刻膠涂布機完全停止工作后才可進行墊高作業；

2、操作人員必須進入光刻膠涂布機內的容納空間內進行墊高作業，這時會將操作人員身上的灰塵顆粒帶入到機臺內部，導致產品良率受到影響；

3、在墊高作業的過程中，操作人員可能會將支撐玻璃基板110的支撐針120移動出原來的位置，這樣在光刻膠涂于玻璃基板110上后，玻璃基板110被支撐針120支撐的位置的受力發生改變，玻璃基板110上的光刻膠受到泵100抽取時，玻璃基板110的變形導致玻璃基板110上光刻膠內溶劑被負壓帶走的不均一，則易產生光斑；

4、操作人員無法通過墊高塊準確設置玻璃基板110與頂板140之間的距離。

故，有必要提供一種光刻膠涂布機承載系統及相應的光刻膠涂布機，以解決現有技術所存在的問題。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題在于，針對現有技術的光刻膠涂布機承載系統及相應的光刻膠涂布機易產生光斑且處理方法復雜、準確度低的缺陷，提供一種通過調整機構自動調整玻璃基板與頂板之間的距離以減弱或消除真空泵浦造成光斑的光刻膠涂布機承載系統及相應的光刻膠涂布機，本光刻膠涂布機承載系統及相應的光刻膠涂布機操作簡單，調整精度高。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：構造一種光刻膠涂布機承載系統，其中包括承載托盤以及用于自動調整所述承載托盤高度的調整機構，所述調整機構與所述承載托盤連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統中，所述調整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統中，所述光刻膠涂布機承載系統還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統中，所述伺服電機包括用于將所述伺服電機的輸出反饋給所述控制模塊的反饋單元，所述反饋單元與所述控制模塊連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統中，所述伺服電機為有刷電機或無刷電機；所述伺服電機為交流電機或直流電機。

本實用新型還涉及一種光刻膠涂布機，包括由頂板和底板組成的容納空間以及設置在所述容納空間內的支撐針以及承載托盤，所述支撐針設置于所述承載托盤上，其中所述光刻膠涂布機還包括設置在所述容納空間內用于自動調整所述承載托盤高度的調整機構；所述調整機構與所述承載托盤連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述調整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。

在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述光刻膠涂布機還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。