[實用新型]屏蔽機構

有效

• 申請號: 201120374791.6
• 申請日: 2011-09-29
• 公開（公告）號: CN202259214U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 王晨;胡彩豐
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B08B3/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝;王瑩

技術領域

本實用新型涉及半導體、太陽能技術中硅材料的清洗，特別是涉及一種用于屏蔽酸霧水霧的屏蔽機構。

背景技術

在半導體、太陽能技術中，都會涉及到對硅材料的清洗，清洗設備中，經常通過腐蝕來實現對硅表面的工藝要求，而自動設備通常通過水平和豎直兩個方向的機械臂來實現負載的運動，這就不可避免的形成機械臂傳動區與腐蝕工藝區的聯通，機械臂傳動部分由于強度上的要求，必須采用金屬材料，其耐腐蝕性能較差，使用一段時間后，會出現酸霧、水霧由腐蝕工藝區溢出至傳動區內，造成金屬材料銹蝕、失效，出現設備自動運行的故障，而簡單的物理隔離不能保證良好的屏蔽效果，反而引入污染。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是：在對硅材料進行腐蝕處理時，如何避免對機械臂傳動部分的腐蝕，而又不會對傳動部分帶來負面影響。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種屏蔽機構，其包括：屏蔽帶，設置為矩形框結構，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設置，上邊框不超過機械臂的頂端。

其中，包括隔板和支撐架，所述隔板與機械臂水平導軌并列設置，隔板上設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與下邊框的交接處分別跨過該滾輪；所述支撐架上也設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與上邊框的交接處分別跨過該滾輪。

其中，所述隔板上設置有壓條，壓條位于屏蔽帶下邊框的兩側，對屏蔽帶下邊框限位。

其中，所述支撐架上設置有托板，屏蔽帶上邊框位于托板上。

其中，所述隔板上設置有連接組件，所述連接組件分別與屏蔽帶下邊框和機械臂相連接。

其中，所述連接組件包括垂直連接的安裝板和連接立板，屏蔽帶下邊框固定在所述安裝板上，所述連接立板與機械臂相連。

其中，所述連接立板與屏蔽帶左右邊框相平行或者垂直。

其中，所述安裝板包括擋板、設置在擋板上的平板、以及設置在平板上的壓塊，所述屏蔽帶下邊框位于平板和壓塊之間。

其中，所述擋板的尺寸大于所述平板的尺寸，所述平板位于擋板上表面內部。

其中，所述屏蔽帶為聚氯乙烯材質。

(三)有益效果

上述技術方案所提供的屏蔽機構，使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區與腐蝕工藝區隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區產生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。

附圖說明

圖1是依照本實用新型一種實施例的屏蔽機構結構示意圖；

圖2是圖1所示屏蔽帶跨過滾輪固定于連接組件的示意圖；

圖3是圖1所示屏蔽機構連接組件的放大示意圖；

圖4是將屏蔽帶與連接組件相連接的結構剖視圖；

圖5是依照本實用新型另一種實施例的屏蔽機構結構示意圖；

圖6是圖5所示屏蔽機構連接組件的放大示意圖。

其中，1：屏蔽帶；11：第一端頭；12：第二端頭；2：托板；3：機械臂；4：滾輪；5：壓條；6：隔板；7：連接組件；71：第一壓塊；72：第一平板；73：第二平板；74：連接立板；75：第二壓塊；76：第一擋板；77：第二擋板；8：導軌；9：支撐架。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。

實施例1

圖1示出了本實用新型實施例的屏蔽機構的結構示意圖，該屏蔽機構用于半導體、太陽能技術中硅材料腐蝕清洗時，對機械臂傳動區和腐蝕工藝區的隔離，防止腐蝕工藝區的酸霧水霧進入機械臂傳動區而對機械臂傳動部件造成腐蝕和損壞。

本實施例的屏蔽機構包括屏蔽帶1和支撐屏蔽帶1的支撐結構，具體地，支撐結構包括隔板6和支撐架9，隔板6與機械臂3的水平導軌8并列設置，隔板6上設置有兩個滾輪4，兩個滾輪4之間的距離與導軌8的長度基本相等。支撐架9設置在隔板6上方，安裝在硅腐蝕清洗設備的骨架上，支撐架9上也設置有兩個滾輪4，此處的兩個滾輪4分別位于隔板6上兩個滾輪4的正上方。屏蔽帶1的兩端分別跨過上下設置的兩個滾輪4，在隔板6上方連接。