[實用新型]生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈

有效

• 申請號: 201120365527.6
• 申請日: 2011-09-20
• 公開（公告）號: CN202246983U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 劉朝軒
• 申請（專利權）人: 洛陽金諾機械工程有限公司
• 主分類號: C30B13/00
• 分類號: C30B13/00;C30B13/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

【技術領域】

本實用新型涉及高頻線圈技術領域，尤其是涉及一種生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈。

【背景技術】

目前，硅芯在國內使用量非常巨大；現有的硅芯、單晶硅及其它材料晶體區熔方式生產的工藝過程中，大多使用的是一種單目高頻線圈，其工作原理是：工作時通過給高頻線圈通入高頻電流，使高頻線圈產生電流對原料棒進行感應加熱，加熱后的原料棒上端頭形成融化區，然后將仔晶通過拉制孔后插入原料棒上端的熔化區，然后慢慢提升仔晶，熔化后的原料就會跟隨仔晶上升，形成一個新的柱形晶體，這個新的柱形晶體便是硅芯或其它材料晶體的制成品。

本人通過多次實驗發現，由于現有拉制孔結構的設置布局不合理，形成拉制出的柱形晶體為橢圓形，柱形晶體的橢圓度不太符合要求；尤其是在拉制五根以上硅芯時，柱形晶體的橢圓形現象更為明顯。

【發明內容】

為了克服背景技術中的不足，本實用新型公開了一種生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，本實用新型在同時生產五或六根硅芯中克服外圍環繞的拉制孔外側面與內側面溫度不一而造成柱形晶體的橢圓形現象，在環繞的拉制孔內側設置引流V形豁口，由引流V形豁口和拉制孔形成水滴形，通過引流V形豁口可使外圍環繞的拉制孔電流均勻分布在拉制孔周圍，通過電流使硅芯或其它晶體材料受熱均勻拉制時更為規范，柱形晶體的橢圓度有效減少，獲取的柱形晶體更為符合要求。

為了實現上述發明的目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，包括高頻線圈、進水管路、出水管路、連接座和地線連接機構，所述高頻線圈呈圓形結構，在圓形高頻線圈的上部面中部設有向下凹陷面，在圓形高頻線圈的下部面中部設有向上的環形臺階，在高頻線圈的外部環繞設置冷卻水道，拉制孔或化料孔設置在圓形高頻線圈的中部，在拉制孔或化料孔外部的高頻線圈上均勻設置五個環繞的拉制孔，由拉制孔或化料孔向呈放射狀設有五個導流槽，所述五個導流槽的外端頭設置在五個拉制孔之間，所述五個拉制孔的朝向拉制孔或化料孔一側分別設有引流V形豁口，所述引流V形豁口的尖端與拉制孔或化料孔留有間距；所述五個導流槽的其中一個通過開口順直貫通至高頻線圈外緣，冷卻水道的兩端在開口的兩側分別形成進水管路和出水管路，進水管路和出水管路外端分別設有連接座，在高頻線圈的外部設有地線連接機構。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，在所述五個導流槽的外端頭分別設有端孔。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，在所述五個導流槽外端頭分別設置的端孔為圓形或多角形。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，所述引流V形豁口的端部設置為“V”形角或圓弧形。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，所述進水管路和出水管路的通孔穿過所述連接座，在所述連接座的進水管路和出水管路的通孔上下兩側分別設有安裝孔。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，所述連接座為多角形連接座或雙半圓形連接座或橢圓形連接座。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，在高頻線圈外部環繞設置冷卻水道為，在高頻線圈的外部上環面或外部下環面或外緣面開槽，將所述冷卻水道環埋在高頻線圈內；或在高頻線圈的外緣面通過釬焊或銅焊或銀焊焊接冷卻水道，使冷卻水道與高頻線圈形成一體。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，五個拉制孔的上部口處設有環形倒角；在拉制孔或化料孔的上部口處設有環形倒角。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，所述開口設置為“U”形開口或“V”形開口或“》”形開口或斜開口。

所述的生產五或六根硅芯的水滴形拉制孔結構的高頻線圈，所述地線連接機構，在高頻線圈的外部上環面或下環面或外緣面設有地線連接板，或在高頻線圈的外部上環面或下環面或外緣打孔通過螺絲連接地線。

由于采用上述技術方案，本實用新型具有如下有益效果：