[實用新型]大型表膜構件用框體和大型表膜構件有效
| 申請號: | 201120336224.1 | 申請日: | 2011-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN202351611U | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發明(設計)人: | 北島慎太郎;谷典子;松榮宏治 | 申請(專利權)人: | 旭化成電子材料株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/38 | 分類號: | G03F1/38 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 大型 構件 用框體 | ||
1.一種大型表膜構件用框體,其為大致矩形,具有開口部,其特征在于,
上述開口部的周緣部由框構件形成,并且上述框構件由至少1個接合部接合;
在構成該大型表膜構件用框體的邊的一部分上形成有向外側彎曲而成的彎曲部。
2.根據權利要求1所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
上述框構件由分開成多個框體的分開框體形成,該多個分開框體由上述接合部接合。
3.根據權利要求1所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
上述框構件具有直線狀的線形構件。
4.根據權利要求3所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
上述線形構件僅在上述開口部的角部附近接合。
5.根據權利要求1或2所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
上述接合部采用嵌合方式接合。
6.根據權利要求1或2所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
上述接合部采用粘接方式接合。
7.根據權利要求1或2所述的大型表膜構件用框體,其特征在于,
該大型表膜構件用框體具備對置的一對長邊和對置的一對短邊;
上述彎曲部形成于上述一對長邊上。
8.一種大型表膜構件,其特征在于,
該大型表膜構件包括:
根據權利要求1~7中任意一項所述的大型表膜構件用框體;
鋪展支承在上述大型表膜構件用框體上的大型表膜構件用膜。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





