[實(shí)用新型]超聲波清洗容器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120334857.9
• 申請(qǐng)日: 2011-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN202224399U
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柴求軍;余文軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 李時(shí)云;屈蘅

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種容器，尤其涉及一種超聲波清洗容器。

背景技術(shù)

CMP指化學(xué)機(jī)械研磨(Chemical?Mechanical?Polishing)，或稱為化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical?Mechanical?Planarization)。當(dāng)今，CMP技術(shù)最廣泛的應(yīng)用是在集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路(ULSI)中對(duì)晶圓進(jìn)行拋光。CMP技術(shù)利用磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光，在一定壓力及研磨液(slurry)存在下，被研磨的工件相對(duì)于研磨墊(pad)作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。

而超聲波清洗是進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨拋光工藝的第一步。因此，超聲波容器的參數(shù)設(shè)置對(duì)于清洗過程特別重要，而參數(shù)的優(yōu)化又建立于硬件的設(shè)計(jì)上，所以，對(duì)于超聲波清洗硬件的優(yōu)化意義特別重大。

如圖1所示，化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的超聲波清洗容器的結(jié)構(gòu)包括：外容器110、內(nèi)容器120和若干液位傳感器130，所述內(nèi)容器120位于所述外容器110的內(nèi)部，所述若干液位傳感器130固定于所述外容器110的外壁上。

由此可見，現(xiàn)有超聲波清洗容器的外容器110的容量和液位傳感器130的位置由生產(chǎn)設(shè)計(jì)決定，具有以下缺點(diǎn)：

1.液位傳感器130固定在外容器110的外壁上，不能根據(jù)外容器的容量需求調(diào)整液位傳感器130的位置。

2.外容器110的容積設(shè)計(jì)大小和實(shí)際容量具有不可知性，不能直觀顯示；

當(dāng)優(yōu)化超聲波參數(shù)時(shí)，由于上述兩種設(shè)計(jì)的限制，會(huì)導(dǎo)致外容器110內(nèi)溶液過少易于揮發(fā)甚至抽空，或者導(dǎo)致外容器110內(nèi)溶液過多容易殘留。

因此，如何提供一種可根據(jù)容量需求而單獨(dú)調(diào)整液位傳感器位置的超聲波清洗容器是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的一個(gè)技術(shù)問題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種可根據(jù)容量需求而單獨(dú)調(diào)整液位傳感器位置的超聲波清洗容器。

為了達(dá)到上述的目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種超聲波清洗容器，包括外容器、內(nèi)容器和若干液位傳感器，所述內(nèi)容器位于所述外容器的內(nèi)部，還包括傳感器調(diào)整定位機(jī)構(gòu)，所述若干液位傳感器通過傳感器調(diào)整定位機(jī)構(gòu)安裝于所述外容器的外壁。

優(yōu)選地，在上述的超聲波清洗容器中，所述傳感器調(diào)整定位機(jī)構(gòu)包括滑槽和若干與所述液位傳感器相應(yīng)數(shù)量的定位組件，所述滑槽固定設(shè)置于所述外容器的外壁，所述定位組件包括定位片和固定片，所述定位片夾設(shè)于所述滑槽內(nèi)，所述固定片設(shè)置于所述滑槽的外側(cè)，所述液位傳感器的外周面設(shè)有外螺紋，所述定位片和固定片分別設(shè)有供相應(yīng)的所述液位傳感器旋入的螺紋孔，所述液位傳感器分別依次穿設(shè)于相應(yīng)的所述固定片和相應(yīng)的所述定位片。

優(yōu)選地，在上述的超聲波清洗容器中，所述滑槽包括一對(duì)開口相對(duì)的凹槽，所述凹槽之間的距離大于所述液位傳感器的外徑。

優(yōu)選地，在上述的超聲波清洗容器中，所述若干液位傳感器由下至上依次設(shè)置于所述外容器的外壁。

優(yōu)選地，在上述的超聲波清洗容器中，所述超聲波清洗容器包括四只液位傳感器，由下至上依次是低低液位傳感器、低液位傳感器、高液位傳感器和高高液位傳感器。

優(yōu)選地，在上述的超聲波清洗容器中，還包括一連通器，所述連通器與所述外容器的底部相連。

在上述的超聲波清洗容器中，所述連通器采用透明材質(zhì)。

在上述的超聲波清洗容器中，所述連通器的外表面設(shè)有刻度。

本實(shí)用新型的超聲波清洗容器，通過傳感器調(diào)整定位機(jī)構(gòu)將液位傳感器安裝于所述外容器的外壁，因此，可以根據(jù)容量需求而單獨(dú)調(diào)整液位傳感器的位置(高度)，從而改變外容器的實(shí)際使用容量，防止外容器因內(nèi)部溶液過少而發(fā)生揮發(fā)甚至抽空現(xiàn)象，并可防止外容器因內(nèi)部溶液過多而發(fā)生溶液殘留現(xiàn)象，同時(shí)，也可以有效提高該超聲波清洗容器的應(yīng)用場(chǎng)合。另外，通過設(shè)置帶有刻度的透明的連通器，可以直觀讀取外容器內(nèi)的液體實(shí)際容量，以方便操作人員使用。

附圖說(shuō)明

本實(shí)用新型的超聲波清洗容器由以下的實(shí)施例及附圖給出。

圖1是現(xiàn)有的超聲波清洗容器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型一實(shí)施例的超聲波清洗容器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實(shí)用新型一實(shí)施例的單個(gè)液位傳感器和傳感器調(diào)整定位機(jī)構(gòu)的裝配示意圖。

具體實(shí)施方式

以下將對(duì)本實(shí)用新型的超聲波清洗容器作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。