[實用新型]雙波紋管結構的化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201120333710.8
• 申請日: 2011-09-06
• 公開（公告）號: CN202279856U
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 甘志銀
• 申請（專利權）人: 甘志銀
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 李平

技術領域

本實用新型涉及光電器件制造技術領域的一種化學氣相沉積設備，特別是一種雙波紋管結構的化學氣相沉積設備。

背景技術

化學氣相沉積(CVD)技術集精密機械、半導體材料、真空電子、流體力學、光學、化學、計算機多學科為一體，是一種自動化程度高、價格昂貴、技術集成度高的高端半導體材料、光電子器件制造專用設備?；瘜W氣相沉積設備作為化合物半導體材料外延生長的理想方法，具有質量高、穩定性好、重復性好、工藝靈活、能規?；慨a等特點，已經成為業界生產半導體光電器件和微波器件的關鍵核心設備，具有廣闊的應用前景和產業化價值。

化學氣相沉積設備結構復雜，反應腔體內部也經常需要清洗維護或更換部件。此外，反應腔體是化學氣相沉積設備最核心的部分，決定了整個設備的性能，隨著現代技術的發展，化學氣相沉積設備的反應腔體仍需要不斷改進與完善。

發明內容

本實用新型的目的是針對已有技術中存在的缺陷，提供一種雙波紋管結構的化學氣相沉積設備。

本實用新型的技術方案一方面可以實現機械手裝載石墨盤，另一方面實現反應腔體高度的調節。通過機械手裝載石墨盤保持反應腔體環境的穩定，以及反應腔高度可以調節這個工藝變量，是設備在工藝多樣化的同時，更具穩定性。

本實用新型包括：反應氣體導入部件1、反應腔體2、腔體上蓋4、上蓋支撐5、閘板閥6、固定底板11、上升降板驅動23、上升降板驅動桿26、上升降板導柱7、上升降板28、上波紋管3、氣體導入部件支撐27、下升降板驅動22、下升降板驅動桿21、下升降板導柱12、下升降板13、下波紋管14、載片盤支撐17、石英罩20、載片盤16、加熱器支撐18、加熱器19和反應腔殼體25，其特征在于反應氣體導入部件1由反應氣體導入部件支撐27固定支撐，反應氣體導入部件支撐27與上升降板28固定連接；反應氣體導入部件支撐27上設有上波紋管3，上波紋管3與腔體上蓋4連接；載片盤16通過石英罩20和載片盤支撐17固定在下升降板13上；加熱器19通過加熱器支撐18固定在下升降板13上，下升降板13連接下波紋管14；底板11上設有上升降板驅動23、上升降板驅動桿26、上升降板導柱7、下升降板驅動22、下升降板驅動桿21及下升降板導柱12。

所述上蓋支撐5上設有閘板閥6為外部機械手自動裝卸圓片15提供窗口。

所述上升降板驅動23和上升降板驅動桿26可通過上升降板28和氣體導入部件支撐27控制氣體導入部件1的升降運動。

所述下升降板驅動22和下升降板驅動桿21可通過下升降板13與下波紋管14和加熱器支撐18控制加熱器19的升降運動。

所述下升降板驅動22和下升降板驅動桿21可通過下升降板13與下波紋管14、載片盤支撐17和石英罩20控制載片盤16的升降運動。

所述氣體導入部件1通過上波紋管3連接可以向上移動，使氣體導入部件1與載片盤之間有足夠的空間間距以至于載片臺16有空間可以通過閘板閥6移出。

本實用新型采用的設置上波紋管和下波紋管的雙波紋管結構具有以下優點：反應氣體氣體導入部件、加熱器、載片盤均能進行升降運動，既能為化學氣相沉積工藝進行反應腔體高度調節，也能為設備維修拆卸提供便利，上蓋支撐上設置的閘板閥也能為外部機械手自動裝卸圓片提供窗口。

附圖說明

圖1本實用新型的結構示意圖；

圖2在圖1基礎上上升降板和下升降板上升運動后的狀態示意圖。

圖中：1反應氣體導入部件、2反應腔體、3上波紋管、4腔體上蓋、5上蓋支撐、6閘板閥、7上升降板導柱、8冷卻水出口、9冷卻水流道、10反應尾氣出口、11固定底板、12下升降板導柱、13下升降板、14下波紋管、15圓片、16載片盤、17載片盤支撐、18加熱器支撐、19加熱器、20石英罩、21下升降板驅動桿、22下升降板驅動、23上升降板驅動、24冷卻水入口、25反應腔殼體、26上升降板驅動桿、27氣體導入部件支撐、28上升降板。

具體實施方式

下面結合附圖進一步說明本實用新型的實施例。

參見圖1，本實用新型包括反應氣體導入部件1、反應腔體2、腔體上蓋4、上蓋支撐5、閘板閥6、固定底板11、上升降板驅動23、上升降板驅動桿26、上升降板導柱7、上升降板28、上波紋管3、氣體導入部件支撐27、下升降板驅動22、下升降板驅動桿21、下升降板導柱12、下升降板13、下波紋管14、載片盤支撐17、石英罩20、載片盤16、加熱器支撐18、加熱器19。