[實用新型]用于輻照后核燃料和材料掃描電鏡樣品制備的濺射裝置

有效

• 申請號: 201120298770.0
• 申請日: 2011-08-17
• 公開（公告）號: CN202221386U
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發明（設計）人: 彭艷華;溫榜;王斐;冷茂林;周云;朱偉
• 申請（專利權）人: 中國核動力研究設計院
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 高尚梅

1.一種用于輻照后核燃料和材料掃描電鏡樣品制備的濺射裝置，其特征在于：該裝置包括控制模塊(9)和工作模塊，其中工作模塊位于熱室內，控制模塊(9)位于熱室前區；工作模塊包括底座(1)、真空室(2)、頂蓋(3)、把手(4)、電極(5)、樣品臺(6)、金靶(7)和真空泵(8)，工作模塊的下部為底座(1)，底座(1)上安裝有真空室(2)，在底座(1)上且真空室(2)內安裝有樣品臺(6)，在真空室(2)的上端設置有頂蓋(3)，在頂蓋(3)的下部安裝有金靶(7)，在頂蓋(3)的上部設置有把手(4)，在頂蓋(3)的中心安裝有電極(5)，真空泵(8)通過底座(1)與真空室(2)連接；控制模塊(9)與電極(5)連接，控制模塊(9)與底座(1)連接。

2.根據權利要求1所述的用于輻照后核燃料和材料掃描電鏡樣品制備的濺射裝置，其特征在于：所述的控制模塊(9)通過電纜與電極(5)連接。

3.根據權利要求1所述的用于輻照后核燃料和材料掃描電鏡樣品制備的濺射裝置，其特征在于：所述的控制模塊(9)通過氣管與底座(1)連接。

4.根據權利要求1所述的用于輻照后核燃料和材料掃描電鏡樣品制備的濺射裝置，其特征在于：所述的底座(1)到真空室(2)上端頂蓋(3)的高度與熱室窺視窗窗口視線的范圍相適應。