[實用新型]真空滅弧室

有效

• 申請號: 201120296066.1
• 申請日: 2011-08-12
• 公開（公告）號: CN202178206U
• 公開（公告）日: 2012-03-28
• 發明（設計）人: 王永法
• 申請（專利權）人: 王永法
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 寧波誠源專利事務所有限公司 33102
• 代理人: 姚娟英

1.一種真空滅弧室，包括具有真空內腔的絕緣外殼和相互對應的動、靜觸頭組件，其中動、靜觸頭組件中的動觸頭(4)、靜觸頭(5)位于所述絕緣外殼的內腔中，動觸頭組件中的動導電桿(6)的一端與所述動觸頭(4)相連，另一端穿過一密封件后外露于所述的絕緣外殼，靜觸頭組件中的靜導電桿(7)一端與所述靜觸頭(5)相連接，另一端外露并固定在所述的絕緣外殼上，其特征在于：所述的動、靜觸頭組件有三對，分別間隔分布于所述的絕緣外殼中。

2.根據權利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于：所述的絕緣外殼包括殼體(1)和位于殼體(1)兩端的動端蓋板(2)和靜端蓋板(3)，所述的密封件為波紋管(8)，所述的動導電桿(6)另一端穿過所述波紋管(8)后外露于所述動端蓋板(2)，所述的靜導電桿(7)另一端外露并固定在所述靜端蓋板(3)上。

3.根據權利要求1或2所述的真空滅弧室，其特征在于：各對所述的動、靜觸頭分別位于各自的屏蔽筒(9)內。

4.根據權利要求1或2所述的真空滅弧室，其特征在于：所述的絕緣外殼外相鄰的動導電桿(6)之間及相鄰的靜導電桿(7)之間均設有絕緣隔板(10)。

5.根據權利要求1或2所述的真空滅弧室，其特征在于：三對所述的動、靜觸頭組件分別間隔均布于所述的絕緣外殼中。