[實(shí)用新型]具有再覆膜之軟性電路基板覆蓋膜構(gòu)造

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120293767.X
• 申請日: 2011-08-15
• 公開（公告）號: CN202262032U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭迎福
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市天暉電子材料科技有限公司
• 主分類號: H05K1/02
• 分類號: H05K1/02
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 曹玉平

技術(shù)領(lǐng)域：

本實(shí)用新型涉及一種具有再覆膜之軟性電路基板覆蓋膜構(gòu)造

背景技術(shù)：

由于產(chǎn)業(yè)進(jìn)步，逐漸發(fā)展所為軟性電板，主要將電子電路印制在塑膠等軟性電路基板上，例如可撓可折之電子書、行動(dòng)電話機(jī)、數(shù)位相機(jī)、MP3播放器、印刷式無線射頻(RFID)。擴(kuò)大電子產(chǎn)品之可攜帶性、環(huán)境適用性。

由于軟性電路板基板目前通常包括一絕緣基材以及接著材料，以及各種銅導(dǎo)體，為防止導(dǎo)體氧化及保護(hù)線路，因此多于銅導(dǎo)體表面設(shè)置有一層覆蓋膜(Coverlayer)，該覆蓋膜通常為絕緣基材及接著劑。另外在覆蓋膜材料技術(shù)方面，為避免對于外界之光能有反映性能，而衰變覆蓋膜之特性，一般先前技術(shù)通常使用「非感光性」的材料，因此材料再使用時(shí)受到局限。而且目前之覆蓋膜在使用之前，也可能因?yàn)槭艿焦ぷ鳝h(huán)境影響而產(chǎn)生氧化，或在移動(dòng)過程中產(chǎn)生摩擦，而致使光反射率降低。

實(shí)用新型內(nèi)容：

有鑒于先前技術(shù)之問題，本發(fā)明人認(rèn)為應(yīng)有一種可以改善之構(gòu)造，為此而設(shè)計(jì)一種具有再覆膜之軟性電路基板覆蓋膜構(gòu)造，該覆蓋膜包括一覆蓋膜本體，是供軟性電路基板覆蓋；一再覆膜，覆設(shè)于該覆蓋膜本體第一表面。

本實(shí)用新型由該再覆膜設(shè)于該覆蓋膜本體之第一表面，由于再覆膜藉由介質(zhì)之特性，形成光通透之阻礙，因此可以提高外界之光反射率，縱使該再覆膜具有透明性，但由于該再覆膜基本上仍為一介質(zhì)，因此仍然對于光線有所反射，可降低該覆蓋膜感光性。對于該覆蓋膜保護(hù)電路基板上電子元件，有更進(jìn)一步之輔助。同時(shí)由層疊之設(shè)置，增加結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。

附圖說明：

圖1是本實(shí)用新型再覆膜與覆蓋膜脫離狀態(tài)下之立體顯示意圖

圖2是本實(shí)用新型組合剖示圖

圖3是本實(shí)用新型于離型膜表層覆蓋一辨識層之組合剖示圖

具體實(shí)施方式：

以下由圖式之輔助，說明本實(shí)用新型之構(gòu)造、特點(diǎn)以及實(shí)施例，促使貴審查員對于本實(shí)用新型有更進(jìn)一步之了解。

請參閱圖1所示，本實(shí)用新型是關(guān)于一種具有再覆膜之軟性電路基板覆蓋膜構(gòu)造，本實(shí)用新型之覆蓋膜(1)包括：

一覆蓋膜本體(10)：是供軟性電路基板覆蓋；主體可以為一聚亞酰胺所制之膜層(一般又稱PI膜)。該覆蓋膜本體(10)內(nèi)部也可以添加氧化鋁(Al2O3)，應(yīng)用于深紫外線光電子學(xué)的半導(dǎo)體物料。也可以含有氮化硼(BN)，由于氮化硼(BN)是一種由相同數(shù)量的氮原子和硼原子組成，可以提供其堅(jiān)硬強(qiáng)度，或是潤滑劑各種成分。也可以含有氮化鋁(Aluminium?nitride，AIN)，因此氮化鋁可以提供高散熱性。可延長電子產(chǎn)品使用壽命，尤其用于顯示裝置的背光模組可提升其畫面品質(zhì)。

一再覆膜(12)：

可以由一層膠著層(11)之媒合，也可以發(fā)生靜電效應(yīng)，而不使用該膠著層(11)，覆設(shè)于該覆蓋膜本體(10)第一表面。其中該再覆膜(12)為具有透明性，為達(dá)到透明性之目的，該再覆膜(12)可為PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯Polyethylene?terephthalate)、PEN等具有高透明性抗UV之材料。一方面因透明可以觀察到覆蓋膜本體(10)，但由于介質(zhì)之特性也仍然可提高反射率，亦可增加覆蓋膜(1)結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。如達(dá)到保護(hù)覆蓋膜本體(10)之目的后，也可以選擇在FPC線路加工制成后，包括裁切、衡孔、對位、高溫壓合至剝離，但留下膠著之殘余部分，也仍然可提高光反射率。本實(shí)用新型由該覆蓋膜(12)藉由介質(zhì)之特性，形成光通透之阻礙，因此可以提高外界之光反射率，可降低該覆蓋膜(1)感光性。對于該覆蓋膜(1)保護(hù)電路基板之上電子元件或銅導(dǎo)體，有更進(jìn)一步之輔助。同時(shí)藉由疊層之設(shè)置，增加結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。

參閱圖2所示，此外，本實(shí)用新型可以于該覆蓋膜本體(10)對感應(yīng)第一表面之第二表面設(shè)有一離型膜(14)，該離型膜(14)可以藉由一膠著層(13)與覆蓋膜本體(10)媒合，也可以發(fā)生靜電效應(yīng)，而不使用該膠著層(13)。

參閱圖3所示，而該離型膜(14)外側(cè)表層可以更設(shè)有一辨識層(4)，該辨識層(4)印有圖案、文字、符號或花紋，而該圖案、文字、符號或花紋可以為公司之企業(yè)識別標(biāo)識或商標(biāo)，增加產(chǎn)品辨識性外，亦有加工中辨識第一表面與第二表面之防呆之作用。

本實(shí)用新型確實(shí)符合產(chǎn)業(yè)利用性，且未于申請前見于刊物或公開使用，亦未為公眾所知悉，且具有非顯而易知性，符合可專利之要件，故依法提出專利申請。

惟上述所陳，為本實(shí)用新型產(chǎn)業(yè)上一較佳實(shí)施例，舉凡依本實(shí)用新型申請專利范圍所作之均等變化，皆屬本案訴求標(biāo)的之范疇。