[實用新型]一種新型等離子體處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120288544.4 | 申請日： | 2011-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN202183908U | 公開（公告）日： | 2012-04-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 溫貽芳;陳新;芮延年;王紅衛(wèi) | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號： | H05H1/26 | 分類號： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102 | 代理人： | 陳忠輝 |
| 地址： | 215104 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 新型 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述處理裝置整體處于負壓環(huán)境，其包含自內(nèi)而外相嵌套的內(nèi)管、絕緣管和外管，其中內(nèi)管接高頻電源，外管接地，該兩者均為金屬管，且兩者由中間的絕緣管隔開絕緣；所述處理裝置的三層套管結(jié)構(gòu)一端設(shè)為氣源接口，另一端封閉，且處理裝置穿透內(nèi)管、絕緣管及外管設(shè)有至少一個排孔，所述排孔相對待處理材料的距離滿足等離子體中電子或離子自我消除，僅保留激發(fā)態(tài)粒子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述排孔為絕緣管孔徑相對內(nèi)、外管孔徑呈收縮狀的射流結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述處理裝置的三層套管結(jié)構(gòu)上軸向延伸排列設(shè)有兩個以上排孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述處理裝置的三層套管結(jié)構(gòu)上軸向錯位排列設(shè)有兩個以上排孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述處理裝置的三層套管結(jié)構(gòu)上沿同一徑向平面排列設(shè)有兩個以上排孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型等離子體處理裝置，其特征在于：所述處理裝置設(shè)有用于驅(qū)動自身徑向移動、對大面積待處理材料進行等離子體表面處理的驅(qū)動模塊。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院，未經(jīng)蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201120288544.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
