[實用新型]一種陰極電弧蒸發源非接觸式直流高壓電引弧裝置

有效

• 申請號: 201120283145.9
• 申請日: 2011-08-05
• 公開（公告）號: CN202181346U
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發明（設計）人: 李志榮;李志方;羅志明;李秋霞
• 申請（專利權）人: 東莞市匯成真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/38
• 分類號: C23C14/38
• 代理公司: 廣州知友專利商標代理有限公司 44104
• 代理人: 周克佑

1.?一種陰極電弧蒸發源非接觸式直流高壓電引弧裝置，包括鍍膜機鍍膜室和蒸發源金屬靶，其特征是：所述的蒸發源金屬靶的靶面上鉆有孔（13），其中嵌有一瓷管（14），瓷管內孔涂覆一層石墨導電漿料層（15），石墨漿料電連通金屬靶，瓷管內孔懸空挿入一電極（16），電極經串聯限流電阻后連接至一直流高壓引弧電源（9）正極，所述的直流高壓引弧電源（9）陰極連接所述的鍍膜機鍍室壁且接地；設有引弧控制電路（12）控制高壓直流引弧電源（9）的開關。

2.根據權利要求1所述的陰極電弧蒸發源非接觸式直流高壓電引弧裝置，其特征是：所述的真空鍍膜機鍍膜室（1）的鍍室壁（2）上安裝有矩形平面陰極電弧蒸發源，該蒸發源與鍍室壁（2）由密封絕緣件（3）隔離，陰極電弧蒸發源由陰極電弧靶體（4）與蒸發物料造的金屬靶塊（5）組成，蒸發源的金屬靶靶面朝向鍍室中央，陰極電弧電源（11）負極連接電弧靶體（4），正極連接鍍室壁（2）且接地，引弧控制電路（12）設于電弧電源。