[實用新型]一種陶質釉面磚自銳拋光生產線

有效

• 申請號: 201120277301.0
• 申請日: 2011-08-02
• 公開（公告）號: CN202240846U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 葉德林;簡潤桐;溫千鴻
• 申請（專利權）人: 廣東薩米特陶瓷有限公司;廣東新明珠陶瓷集團有限公司
• 主分類號: B24B29/00
• 分類號: B24B29/00
• 代理公司: 北京東方匯眾知識產權代理事務所(普通合伙) 11296
• 代理人: 劉淑芬

技術領域

本實用新型涉及一種陶瓷建筑裝飾材料的制造設備領域，特別涉及一種陶質釉面磚自銳拋光生產線。?

背景技術

陶瓷釉面磚以其強度高、光澤度好、色彩鮮明、易清潔等優點成為了很多客戶選擇的對象。特別是釉面拋光內墻磚因其亮麗的表面鏡面效果深受消費者喜愛。已知的陶瓷拋光釉面磚的現有制造方法有三種：(1)印刷圖案紋理后再印刷2～3次透明印刷釉，經燒成后再進行拋光，這種工藝在瓷質仿古磚方面比較多采用，印刷的介質都為水性材料；存在的不足一是需要比較長的生產線(印花次數多)，二是拋光后釉面平整度不佳，存在比較多的過度拋光或漏拋及光澤度不均勻的情況，生產穩定性較差；(2)施釉印刷圖案紋理燒成后堆微晶透明熔塊干粒，經再次燒成后拋光，這種工藝多用來生產瓷質拋晶磚。存在的問題一是產能低，燒成周期在2.5～3小時，造成能耗大；二是要堆積多達6kg/m²的微晶透明熔塊干粒，成本非常高，產品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、粗拋、精拋工序，能源消耗大；四是合格率低，通常只在85％左右。(3)拋晶三度燒工藝，多用在陶質磚配套腰線或花片的生產方面，其工藝為在陶質磚成品上進行圖案紋理印刷后燒成，再在燒成的制品上堆積低溫透明干?粒，經再次燒成后進行拋光處理；這一工藝存在的不足一是生產工藝復雜，且多為手工操作，產能低；二是要堆積多達4kg/m²的透明熔塊干粒，成本非常高，產品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、粗拋、精拋工序，能源消耗大。?

針對現有技術存在的上述缺陷，作出本實用新型。?

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種具有自行對磨頭進行銳化處理的陶質釉面磚拋光生產線。?

為實現上述實用新型目的，本實用新型所提供的技術方案為：一種陶質釉面磚自銳拋光生產線，包括拋光進磚平臺，陶質釉面磚通過拋光進磚平臺輸送依次經過拋光區進行拋光，拋光區內包括一橫梁，橫梁上設有磨頭支架，磨頭支架末端設有拋光磨頭，拋光進磚平臺上間隔15-30塊釉面磚的距離處設有一磨銳器具。?

磨銳器具為表面具有粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。?

磚坯表面粗糙線條紋理為網狀。?

磚坯厚度與陶質釉面磚相同。?

磚坯規格為300mm×200mm。?

本實用新型的有益效果是：?

本實用新型通過以上技術方案后可達到以下有益效果：?

1、改造投入少：對原有生產工藝及生產線設備無須大的改造，即可實現產品的效果提升。?

2、圖案清晰度高，色彩柔和：采用釉下彩裝飾，紋理和色彩完全融入釉中，色彩更為柔和；同時經過對透明釉層的拋光，圖案清晰度高。?

3、釉面平整度好，實現鏡面效果：通過對釉面拋光處理，釉層表面的小缺陷和波紋現象完全消除，平整度好，達到了鏡面效果。?

4、拋光工藝簡單，只需對釉層進行精拋，無須刮平、粗拋，大幅降低了電耗和磨頭損耗，達到對釉面的連續性打磨、拋光，避免了過拋及漏拋等不均勻性拋光缺陷，提高了合格率。?

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意簡圖。?

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式進行詳細描述。?

圖1是本實用新型的結構示意簡圖，如圖1所示，本實用新型一種陶質釉面磚自銳拋光生產線，包括拋光進磚平臺1，陶質釉面磚2通過拋光進磚平臺1輸送依次經過拋光區3進行拋光，拋光區內包括一橫梁4，橫梁4上設有磨頭支架5，磨頭支架5末端設有拋光磨頭6，拋光進磚平臺1上間隔15-30塊釉面磚2的距離處設有一磨銳器具7，磨銳器具為表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯，磚坯厚度與陶質釉面磚相同，磚坯規格為300mm×200mm。?

本實用新型所述“自銳拋光”是與通常拋光方式不同在于只是對燒后產品的透明釉層進行精拋，由于沒有了通常的刮平和粗拋過程，使樹脂拋光磨頭在平滑釉面拋光時容易出現因磨頭中樹脂無法與碳?化硅顆粒自動脫落造成磨頭鈍化的問題，為解決這一問題，必須使磨頭獲得銳利能力，在正常的拋光陶質釉面磚中每隔15～30件加入與陶質釉面磚同等厚度規格為300mm×200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。通過加入的網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯對磨頭的反打磨，使磨頭自我獲得了銳利能力，實現在光滑的釉面連續拋光的目的。?

本實用新型也可以具有其它的形式變化，如本領域技術人員所熟知，上述實施例僅僅起到對上述實用新型保護范圍內的示范作用，對本領域普通技術人員來說，在本實用新型所限定的保護范圍內還有很多常規變形和其它實施例，這些變形和實施例都將在本實用新型待批的保護范圍之內。?