[實用新型]一種用于均壓調整的壓輥機構

有效

• 申請號: 201120271701.0
• 申請日: 2011-07-28
• 公開（公告）號: CN202138037U
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發明（設計）人: 謝居文;羅志杰;李舵;李兆廷
• 申請（專利權）人: 東旭集團有限公司;成都泰軼斯太陽能科技有限公司
• 主分類號: B32B37/10
• 分類號: B32B37/10;H01L31/18
• 代理公司: 深圳市智科友專利商標事務所 44241
• 代理人: 曲家彬

1.一種用于均壓調整的壓輥機構，結構中包括機架(1)、由上至下依次定位在機架(1)上的上壓輥(A)及下壓輥(B)、以及借助同步反向傳動機構與上、下壓輥連接的驅動電機(5)，其特征在于：在上壓輥(A)或/和下壓輥(B)的芯軸結構中同軸增設氣漲軸(C)，氣漲軸(C)借助兩端的軸頭定位在芯軸中段、并借助軸瓦的徑向擴張及收縮形成壓輥的均壓調整機構。

2.根據權利要求1所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的下壓輥(B)的結構中包括借助軸承定位在機架(1)上的第二芯軸(B-1)、依次固定套設在第二芯軸(B-1)上的第二輥筒(B-2)和第二輥筒套(B-3)。

3.根據權利要求2所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的上壓輥(A)的結構中包括固定在機架(1)上的第一芯軸(A-1)、借助軸承設置在第一芯軸(A-1)上的第一輥筒(A-2)及第一輥筒套(A-3)，第一輥筒(A-2)和第二輥筒(B-2)借助與驅動電機連接的同步反向傳動機構形成撮輥機構。

4.根據權利要求3所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的壓輥機構的結構中還包括對稱設置在上壓輥(A)兩端的垂直同步升降機構，包括：定位在機架(1)上的步進電機(4)、由與步進電機(4)輸出端連接的絲杠(3)及帶有螺母副的定位塊(2)組成的升降機構，上壓輥(A)的第一芯軸(A-1)的固定設置在定位塊(2)上。

5.根據權利要求3所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的同步反向傳動機構是皮帶輪傳動機構(6)。

6.根據權利要求3所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的氣漲軸(C)兩端的軸頭借助軸承副與第一芯軸(A-1)定位連接、軸瓦與第一輥筒(A-2)的內壁緊密接觸。

7.根據權利要求1所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的外徑調整機構調整壓輥外徑變化的范圍是0.05～0.2mm。

8.根據權利要求1所述的一種用于均壓調整的壓輥機構，其特征在于：所述的氣漲軸(C)的充氣管路(C-1)設置在其中一端的軸頭，充氣管路(C-1)穿過芯軸定位在該軸頭上。