[實(shí)用新型]電鍍裝置的遮蔽裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120239502.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202164371U | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳中和 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陳中和 |
| 主分類號(hào): | C25D17/00 | 分類號(hào): | C25D17/00 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標(biāo)代理有限公司 11239 | 代理人: | 孫剛 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新北*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電鍍 裝置 遮蔽 | ||
1.一種電鍍裝置的遮蔽裝置,該電鍍裝置含有一電鍍槽,于該電鍍槽的兩側(cè)裝置有連接陽(yáng)極的欲鍍物,并于該電鍍槽的中央滑置連接陰極的被鍍物;其特征在于,該遮蔽裝置包括:
兩固定遮板,置于兩該欲鍍物與被鍍物間,且分別穿設(shè)有多個(gè)洞孔;
多個(gè)縱向活動(dòng)遮片,分別置于該固定遮板一側(cè),且為一作動(dòng)機(jī)構(gòu)聯(lián)動(dòng)地沿該固定遮板位移,遮蔽該固定遮板的縱向部分洞孔;以及
兩橫向活動(dòng)遮片,滑置于該電鍍槽中,且分別位于兩該固定遮板的一側(cè),形成平時(shí)受電鍍液的浮力自動(dòng)上升,且為該被鍍物下降而下推地潛入電鍍液中,遮蔽該固定遮板的橫向部分洞孔的結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,該縱向活動(dòng)遮片的頂端設(shè)有一聯(lián)動(dòng)螺孔,以螺合該作動(dòng)機(jī)構(gòu)的螺桿,形成于旋轉(zhuǎn)該作動(dòng)機(jī)構(gòu)的螺桿后,該縱向活動(dòng)遮片沿該螺桿的軸心軸向地位移的結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,于該固定遮板的左、右兩端,分別設(shè)有一縱向活動(dòng)遮片,令該兩縱向活動(dòng)遮片的頂端分別設(shè)有一聯(lián)動(dòng)螺孔,且一為左螺紋孔一為右螺紋孔,以螺合該作動(dòng)機(jī)構(gòu)中一含有左螺紋及右螺紋的螺桿上,形成于旋轉(zhuǎn)該作動(dòng)機(jī)構(gòu)的螺桿后,相對(duì)聯(lián)動(dòng)該兩縱向活動(dòng)遮片沿該螺桿的軸心,軸向地相對(duì)趨近或遠(yuǎn)離的結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,含有第一導(dǎo)軌,裝置于該電鍍槽中該固定遮板上,對(duì)應(yīng)地限制該縱向活動(dòng)遮片于內(nèi)橫向位移。
5.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,含有第二導(dǎo)軌,裝置于該固定遮板的兩側(cè),容置該橫向活動(dòng)遮片的兩側(cè)板緣于內(nèi)穩(wěn)定滑移。
6.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,該作動(dòng)機(jī)構(gòu),含有一軸桿銜接有螺桿,并為多個(gè)承架固定于該電鍍槽上,且連接有一把手,形成于驅(qū)轉(zhuǎn)該把手后可以聯(lián)動(dòng)旋轉(zhuǎn)該螺桿的結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1所述電鍍裝置的遮蔽裝置,其特征在于,于該兩橫向活動(dòng)遮片間,固連有承載下降的被鍍物并使兩橫向活動(dòng)遮片隨該被鍍物下降的多個(gè)承載架。
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