[實用新型]太陽電池硅片殘酸堿水清洗裝置

有效

• 申請號: 201120227366.4
• 申請日: 2011-06-30
• 公開（公告）號: CN202162156U
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 葉權華
• 申請（專利權）人: 常州天合光能有限公司
• 主分類號: B08B3/00
• 分類號: B08B3/00;B08B3/02;B08B3/04
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 王凌霄

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池技術領域，尤其是一種太陽電池硅片殘酸堿水清洗裝置。

背景技術

在太陽電池的制備過程中，常采用酸或堿溶液對硅片進行刻蝕，以防止PN結正面與背面產生短路，而經過酸或堿溶液的硅片表面都會殘留有部分酸堿，如果不將殘留的酸堿清洗干凈，容易給硅片帶來污染，導致電流降低以及外觀不良，但目前對硅片殘酸堿所采用的水清洗效果并不很理想，清洗后硅片干凈度與所要求的存在差別。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：克服現有技術中之不足，提供一種清洗效果更佳、更干凈的太陽電池硅片殘酸堿水清洗裝置。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種太陽電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽，所述的存水槽上部設有對硅片進行噴淋的噴淋管，存水槽底部分別設有用于向存水槽內補水的溢流進水管和可快速排放已清洗過的水流的快排出水管。

為調節水流排放頻率，所述的存水槽外壁設有控制存水槽中水流排放頻率的控制器。

本實用新型的有益效果是：本實用新型采用對太陽電池硅片上方噴淋加下部溢流補水以及清洗過的水流快速排放的方式，循環進行，可將硅片上殘留的酸堿清洗更加干凈，達到較為理想的清洗效果。

附圖說明

下面結合附圖和實施方式對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖中1.存水槽?2.噴淋管?3.溢流進水管?4.快排出水管?5.控制器6.硅片

具體實施方式

現在結合附圖對本實用新型作進一步的說明。這些附圖均為簡化的示意圖僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。

如圖1所示的一種太陽電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽1，所述的存水槽1上部設有對硅片6進行噴淋的噴淋管2，噴淋管2從上方向硅片6進行噴淋，可確保水流最大程度地噴到硅片6上，存水槽1底部分別設有用于向存水槽1內補水的溢流進水管3和可快速排放已清洗過的水流的快排出水管4，快排出水管4的口徑大于溢流進水管3的口徑。

為調節水流排放頻率，所述的存水槽1外壁設有控制存水槽1中水流排放頻率的控制器5，可根據工藝需要設置水流排放的循環頻率。

本實用新型采用噴淋加溢流進水加快速排水的方式沖洗硅片6，當硅片6進入存水槽后，通過噴淋管2從硅片6上方進行噴淋加上存水槽1底部溢流進水管3溢流進水的方式，使存水槽1快速存滿水，存滿水后，溢流進水管3繼續溢流進水一定時間，具體時間可由工藝要求設置，使得硅片6上殘留的酸堿充分洗凈，然后由快排出水管4快速排放已清洗過硅片6的水流，而后再通過噴淋管2噴淋和溢流進水管3進水，快速將存水槽1補滿水，如此循環進行，從而使硅片6上殘留的酸堿得到徹底的清洗，達到硅片6更加干凈和較為理想的清洗效果，其中循環次數根據工藝要求調整。

上述實施方式只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容并加以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍，凡根據本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內。