[實用新型]一種大面積投影光刻系統

有效

• 申請號: 201120224617.3
• 申請日: 2011-06-29
• 公開（公告）號: CN202133858U
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發明（設計）人: 雷亮;周金運;陳麗;魏威;江文龍
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 林麗明

1.一種大面積投影光刻系統，其特征在于包括有準分子激光器（1）、照明系統（2）、平移臺（3）、掩模板（4）、投影系統（5）、硅片基板（6），其中掩模板（4）及硅片基板（6）分別裝設在平移臺（3）的兩端，準分子激光器（1）通過照明系統（2）進行光路調制與光束質量優化后，使紫外激光的光斑透過安裝在平移臺（3）一端位置上的掩模板（4），掩模板（4）所成的激光物象通過投影系統（5）成像在安裝在平移臺（3）另一端位置上的硅片基板（6）上。

2.?根據權利要求1所述的大面積投影光刻系統大面積投影光刻系統，其特征在于上述平移臺（3）具有三個相互垂直的三維立體自由度（7），分別為水平方向x1，垂直紙面方向y1，豎直方向z；z的調節遵循物象共軛準則使得掩模板（4）上的密布電路圖案通過投影系統（5）曝光清晰成像在硅片基板（6）上；x1與y1的大范圍調節使得系統實現的大面積投影光刻功能。

3.根據權利要求1所述的大面積投影光刻系統，其特征在于上述投影系統（5）包括有兩個裝設位置分別與掩模板（4）及硅片基板（6）對應的轉角棱鏡、激光器（8）、半反半透鏡（9）、第一圖像傳感器（10）、第二圖像傳感器（11），其中轉角棱鏡都鍍上介質膜，兩個半反半透鏡（9）分別裝設在同軸對準激光器（8）的光源的位置上，且兩個半反半透鏡（9）的其中一個反射面分別與兩個轉角棱鏡的位置相對應，兩個半反半透鏡（9）的另一個反射面分別與第一圖像傳感器（10）及第二圖像傳感器（11）的位置相對應，激光器（8）在經過半反半透鏡（9）后，其反射光經過轉角棱鏡的介質膜分別照明掩模板（4）及硅片基板（6），所得到的視頻圖樣再次經半反半透鏡（9），最后分別被第一圖像傳感器（10）及第二圖像傳感器（11）獲取。

4.根據權利要求3所述的大面積投影光刻系統，其特征在于上述轉角棱鏡都鍍上對532nm高透、351nm高反的介質膜。

5.根據權利要求3所述的大面積投影光刻系統，其特征在于上述激光器（8）為同軸對準光源。

6.根據權利要求5所述的大面積投影光刻系統，其特征在于上述激光器（8）為摻釹釔鋁石榴石激光器。

7.根據權利要求1至6任一項所述的大面積投影光刻系統，其特征在于上述平移臺（3）與硅片基板（6）通過具有x2、y2、θ三個方向的三維微調對準裝置（12）連接。