[實(shí)用新型]X線曝光控制設(shè)備及X線曝光系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120184512.X | 申請日: | 2011-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN202143287U | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙建國 | 申請(專利權(quán))人: | 趙建國 |
| 主分類號: | H05G1/30 | 分類號: | H05G1/30;H05G1/46 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 呂曉章;王娟 |
| 地址: | 江蘇省常熟市經(jīng)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 曝光 控制 設(shè)備 系統(tǒng) | ||
1.一種X線曝光控制設(shè)備,包括:
預(yù)曝光參數(shù)確定裝置,用于確定對被拍攝對象進(jìn)行預(yù)曝光的預(yù)曝光參數(shù),所述預(yù)曝光參數(shù)包括預(yù)曝光管電壓、預(yù)曝光管電流、以及預(yù)曝光時間;
預(yù)曝光圖像接收裝置,用于從X線探測器接收通過預(yù)曝光產(chǎn)生的預(yù)曝光圖像;
曝光參數(shù)確定裝置,用于根據(jù)所述預(yù)曝光圖像來計算對所述被拍攝對象進(jìn)行曝光所需的曝光參數(shù),所述曝光參數(shù)包括曝光管電壓、曝光管電流以及曝光時間,所述曝光管電流和曝光時間的乘積為曝光劑量,其中所述曝光管電壓等于或不等于所述預(yù)曝光管電壓,以及所述曝光管電流等于或不等于所述預(yù)曝光管電流;以及
曝光指示裝置,用于按照曝光參數(shù)對X線光源的曝光作出指示。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述曝光參數(shù)確定裝置包括:
平均灰度值計算部件,用于對所述預(yù)曝光圖像的給定區(qū)域中各像素的灰度值求平均以獲得所述給定區(qū)域的平均灰度值;
倍量系數(shù)計算部件,用于利用所需的曝光圖像灰度值除以所述給定區(qū)域中的平均灰度值以便獲得一倍量系數(shù);以及
曝光劑量計算部件,用于將所述預(yù)曝光時間與所述預(yù)曝光管電流的乘積乘以所述倍量系數(shù)以便獲得所述曝光劑量。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述曝光參數(shù)確定裝置包括:
平均灰度值計算部件,用于對所述預(yù)曝光圖像的給定區(qū)域中各像素的灰度值求平均以獲得所述給定區(qū)域的平均灰度值;
倍量系數(shù)計算部件,用于利用所需的曝光圖像灰度值除以所述給定區(qū)域中的平均灰度值以便獲得一倍量系數(shù);以及
曝光時間計算部件,用于將所述預(yù)曝光時間乘以所述倍量系數(shù)以便獲得所述曝光時間。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述曝光參數(shù)確定裝置包括:
曝光劑量計算部件,用于根據(jù)所述預(yù)曝光圖像中被拍攝對象的成像大小和/或所述預(yù)曝光圖像中的給定區(qū)域中各像素的灰度值來確定所需的曝光劑量;以及
曝光管電壓計算部件,用于根據(jù)所述預(yù)曝光圖像中被拍攝對象的成像大小和/或所述預(yù)曝光圖像中的給定區(qū)域中各像素的灰度值來確定所需的曝光管電壓。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,進(jìn)一步包括:
曝光模式指定裝置,用于指定在所述預(yù)曝光時間之后是否停止曝光;
其中,在指定在所述預(yù)曝光時間之后停止曝光的情況下,在所述曝光參數(shù)確定裝置計算出所述曝光參數(shù)之后,所述曝光指示裝置指示X線光源依據(jù)所述曝光管電壓和所述曝光管電流對被拍攝對象進(jìn)行所述曝光時間的曝光。
6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,所述曝光指示裝置包括:
曝光劑量比較裝置,用于將從預(yù)曝光開始的時刻起的總曝光劑量與所述曝光劑量進(jìn)行比較;
其中,在指定在所述預(yù)曝光時間之后利用所述預(yù)曝光管電壓和預(yù)曝光管電流繼續(xù)對被拍攝對象連續(xù)地進(jìn)行曝光而不停止曝光的情況下,在所述曝光參數(shù)確定裝置計算出所述曝光參數(shù)之后,所述曝光劑量比較裝置將從預(yù)曝光開始的時刻起的總曝光劑量與所述曝光劑量進(jìn)行比較;以及
在所述總曝光劑量小于所述曝光劑量的情況下,所述曝光指示裝置指示利用所述曝光管電壓和所述曝光管電流對被拍攝對象進(jìn)行曝光直至總曝光劑量等于所述曝光劑量。
7.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,所述曝光指示裝置包括:
曝光時間比較裝置,用于將從預(yù)曝光開始的時刻起的總曝光時間與所述曝光時間進(jìn)行比較;
其中,在指定在所述預(yù)曝光時間之后利用所述預(yù)曝光管電壓和預(yù)曝光管電流繼續(xù)對被拍攝對象連續(xù)地進(jìn)行曝光而不停止曝光的情況下,在所述曝光參數(shù)確定裝置計算出所述曝光參數(shù)之后,在曝光管電流等于所述預(yù)曝光管電流的情況下,所述曝光時間比較裝置將從預(yù)曝光開始的時刻起的總曝光時間與所述曝光時間進(jìn)行比較;以及
在所述總曝光時間小于所述曝光時間的情況下,所述曝光指示裝置指示利用所述曝光管電壓和所述預(yù)曝光管電流對被拍攝對象進(jìn)行曝光直至總曝光時間等于所述曝光時間。
8.如權(quán)利要求2-4之一所述的設(shè)備,其中,
所述給定區(qū)域?yàn)楸慌臄z對象的不同身體部位或器官;
所述預(yù)曝光管電壓和預(yù)曝光管電流是從用于所述給定區(qū)域的X線曝光參數(shù)經(jīng)驗(yàn)表格中獲得的;以及
所述預(yù)曝光時間小于從用于所述給定區(qū)域的X線曝光參數(shù)經(jīng)驗(yàn)表格中獲得的曝光時間的50%。
9.一種X線曝光系統(tǒng),其在無需電離室的情況下自動控制X線曝光,該X線曝光系統(tǒng)包括:
X線光源;
X線探測器;以及
如權(quán)利要求1-8所述的X線曝光控制設(shè)備。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于趙建國,未經(jīng)趙建國許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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