[實用新型]一種立式高濃打漿裝置

無效

• 申請號: 201120180672.7
• 申請日: 2011-05-31
• 公開（公告）號: CN202107939U
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 陳榮;朱小林
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: D21D1/02
• 分類號: D21D1/02
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 羅觀祥

1.一種立式高濃打漿裝置，包括打漿機構及其驅動機構，其特征在于，所述打漿機構自上而下依次包括上打漿磨片、下打漿磨片、永磁浮力盤，所述上打漿磨片的頂部設置有進料口，所述上打漿磨片與下打漿磨片之間為打漿區，在打漿區內設置有撥料片；所述驅動機構包括支撐架、下軸承座及軸承、液壓缸、上軸承座及軸承、主軸，所述主軸的一端伸入打漿區內與撥料片連接，所述液壓缸設置于下軸承座及軸承和上軸承座及軸承之間，液壓缸用于調節上打漿磨片和下打漿磨片的擠壓力。

2.根據權利要求1所述的立式高濃打漿裝置，其特征在于，所述撥料片為十字交叉形狀或者兩個“S”形狀交叉葉片構成，安裝在主軸頂端中心位置。

3.根據權利要求2所述的立式高濃打漿裝置，其特征在于，所述撥料片的葉片高3cm～6cm、寬2cm～5cm。

4.根據權利要求3所述的立式高濃打漿裝置，其特征在于，所述上打漿磨片、下打漿磨片的相對面設置有齒牙。

5.根據權利要求4所述的立式高濃打漿裝置，其特征在于，所述齒牙為半斜齒型結構。

6.根據權利要求5所述的立式高濃打漿裝置，其特征在于，所述支撐架的底部設置有底座，所述主軸的端部設置有傳動輪。