[實用新型]多晶硅還原爐頂部進氣裝置有效
| 申請號： | 201120176649.0 | 申請日： | 2011-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN202131101U | 公開（公告）日： | 2012-02-01 |
| 發明（設計）人： | 李東曦;李嚴州;程佳彪;茅陸榮 | 申請（專利權）人： | 上海森松環境技術工程有限公司 |
| 主分類號： | C01B33/027 | 分類號： | C01B33/027 |
| 代理公司： | 上海百一領御專利代理事務所(普通合伙) 31243 | 代理人： | 馬育麟 |
| 地址： | 200137 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多晶 還原 爐頂 部進氣 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，包括進氣總管、進氣分配管、連接進氣分配管與還原爐的進氣支管。
2.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣支管末端設有噴嘴。
3.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣總管位于還原爐頂部。
4.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣分配管位于還原爐頂部。
5.根據權利要求1或4所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣分配管為環形。
6.根據權利要求5所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣支管為五個，其中一個位于還原爐中心，其余四個按環形均勻分布。
7.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣支管位于還原爐封頭，或者筒體，或者其他任意頂部位置。
8.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐頂部進氣裝置，其特征在于，所述進氣支管垂直于所在還原爐殼體。?
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