[實用新型]石英晶片的清洗裝置

有效

• 申請號: 201120158276.4
• 申請日: 2011-05-18
• 公開（公告）號: CN202061841U
• 公開（公告）日: 2011-12-07
• 發明（設計）人: 李群勝;湯劍波
• 申請（專利權）人: 益陽晶益電子有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;G05B19/05
• 代理公司: 益陽市銀城專利事務所 43107
• 代理人: 舒斌;夏宗福

技術領域

本實用新型涉及一種石英晶體振蕩器的加工設備，具體地說是一種清洗裝置，特別是涉及一種石英晶片的清洗裝置。

背景技術

在石英晶體振蕩器制造行業中，對石英晶片清洗的潔凈程度要求非常嚴格，因為石英晶片清洗的潔凈程度直接影響石英晶體振蕩器制造的產品質量。現有石英晶片的清洗裝置，一般是采用多個超聲波清洗槽對石英晶片逐個完成手動超聲波初洗和清洗2～9次，清洗完后，將網籠里的的石英晶片取出，放入烘箱中烘干2小時。整個清洗過程的自動化程度不高，清洗時間較長，常常會因為人為因素的影響而導致清洗后的石英晶片潔凈度不高。同時，由于石英晶片需在高純水中清洗2～9次，每一次清洗完成后，石英晶片均無脫水甩干過程，使得上次清洗的殘留液體有少部分混入下次清洗過程中，影響石英晶片的清洗效果。

專利號為201020180557.5，申請日為2010年04月30日，公開號為CN201644439U的專利公開了一種半自動晶片后洗裝置，該裝置包括初洗槽、噴淋槽、凈洗槽、甩干槽和脫水槽多個槽位，工作時，晶片通過初洗槽進行初洗，初洗完成后，將晶片取出放入噴淋槽內，對其進行噴淋，噴淋完成后，又需要將晶片取出放入凈洗槽內，每完成一道工序，都需要將上一槽位的晶片取出移到下一槽位中，增加了工人的勞動強度，在轉移晶片時，容易因為人為因素的影響而導致清洗后的石英晶片潔凈度不高；且該裝置結構復雜，成本高，占地面積較大。

發明內容

本實用新型的目的是提供一種提高清洗效率的石英晶片的清洗裝置。

本實用新型是采用如下技術方案實現其發明目的的，一種石英晶片的清洗裝置，它包括設有溢水口的清洗桶，清洗桶內設有用于放置石英晶片的網籠，清洗桶底部安裝有超聲波振子，清洗桶底部設有孔，所述的孔與由電磁閥控制的進水管和出水管連通，所述的電磁閥、超聲波振子由PLC控制裝置控制，實現對石英晶片的初洗、至少二次的清洗。

本實用新型為對石英晶片進行脫水甩干，清洗桶內設有用于安裝網籠的網籠架，網籠架安裝在離心機的主軸上，所述的離心機由PLC控制裝置控制，實現對石英晶片的脫水甩干。

本實用新型網籠架通過支架安裝在離心機的主軸上，網籠架通過銷軸與支架連接。

本實用新型為對石英晶片進行烘干，清洗桶上設有桶蓋，桶蓋上設有烘干器，所述的烘干器由PLC控制裝置控制，實現對石英晶片的烘干。

本實用新型所述的烘干器為碘鎢燈。

由于采用上述技術方案，本實用新型較好的實現了發明目的，其結構簡單，提高了裝置的自動化控制程度，在每次清洗后通過脫水甩干程序，能有效的清理殘余液體，同時，采用活水清洗，提高了清洗效果，烘干時間只需20分鐘，大大減少了清洗時間，大大提高了生產效率，降低了工人勞動強度。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型網籠架10、支架11的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明。

實施例1：

一種石英晶片的清洗方法，它包括對石英晶片的初洗、至少二次的清洗、烘干，使石英晶片達到工藝要求的潔凈程度，所述石英晶片的初洗、至少二次的清洗是將石英晶片放入清洗裝置的清洗桶中，由PLC控制裝置控制，石英晶片無需取出，在同一清洗桶內用清洗液完成初洗、至少二次的清洗。

由圖1可知，一種實現上述石英晶片清洗方法的清洗裝置，它包括設有溢水口8的清洗桶3，清洗桶3內設有用于放置石英晶片的網籠4，清洗桶3底部安裝有超聲波振子9，清洗桶3底部設有孔，所述的孔與由電磁閥控制的進水管5和出水管6連通，所述的電磁閥、超聲波振子9由PLC控制裝置（可編程邏輯控制器）控制，實現對石英晶片的初洗、至少二次的清洗。

本實用新型工作時，首先將待洗滌的石英晶片放入網籠4內，清洗劑加入清洗桶3內，PLC控制裝置控制進水管5的電磁閥打開，溫度為40℃～60℃的清洗液（本實施例為50℃的高純水）進入清洗桶3內；同時，PLC控制裝置控制超聲波振子9工作，對網籠4內的石英晶片進行初洗，多余的清洗液從溢水口8不斷溢出，初洗時間5分鐘～15分鐘（本實施例為10分鐘）；初洗完成后，PLC控制裝置控制進水管5的電磁閥關閉，出水管6的電磁閥打開，將清洗液排出。