[實用新型]一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐無效
| 申請號: | 201120157689.0 | 申請日: | 2011-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN202089778U | 公開(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發明(設計)人: | 辛湘杰;楊雷;柏玉春;熊珍玉;易保華;姚光明;唐安東;田新 | 申請(專利權)人: | 長沙科星納米工程技術有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/021 | 分類號: | C01B33/021 |
| 代理公司: | 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115 | 代理人: | 李炳生 |
| 地址: | 410100 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 鍍金 處理 多晶 還原 | ||
技術領域
本實用新型涉及還原爐,具體為一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐。?
背景技術
我國多晶硅領域的還原爐是電耗非常高的設備,目前的節能方法大多集中在使用新型進口設備上,這會造成多晶硅企業設備改造成本大大增加、長效節能難以穩定的隱患。?
實用新型內容
本實用新型所解決的技術問題在于提供一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐,以解決上述背景技術中的缺點。?
本實用新型所解決的技術問題采用以下技術方案來實現:?
一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐,包括爐體,所述爐體上設置內筒,內筒采用316L鋼,其區別于傳統還原爐的顯著特征在于,在內筒內壁有鍍金膜。本實用新型中,所述鍍金膜的厚度為1-5μm,最佳厚度為5μm。
本實用新型運用鍍金處理技術,可長期耐高溫及高溫腐蝕,具有耐酸堿的腐蝕、反射率穩定、粘結牢固等特點,大大提高了還原爐爐內反射高溫紅外線的能力,從而使硅迅速在爐內中心硅棒上沉積。?
有益效果
本實用新型運用了鍍金處理技術,節能效果好,性能穩定,可以延長還原爐使用壽命和提高熱效率,具有節能環保的功效。
附圖說明
圖1為本實用新型一種具體實施例的結構示意圖。?
具體實施方式
為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面結合具體圖示,進一步闡述本實用新型。?
本實施例選用多晶硅還原爐對本實用新型進行闡述,參見圖1,一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐,包括爐體1,所述爐體1上設置爐膛2,爐壁3采用316L鋼,其區別于傳統還原爐的顯著特征在于,在爐膛內壁3的表面進行鍍金處理。本實用新型中,所述鍍金膜的厚度為1-5μm,最佳厚度為5μm。?
以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下,本實用新型還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定?。?
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