[實用新型]一種組合式全電波暗室無效
| 申請號: | 201120154620.2 | 申請日: | 2011-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN202083751U | 公開(公告)日: | 2011-12-21 |
| 發明(設計)人: | 韓兆祥;徐昭娣;楊麗媛;丁瓊華;劉宏徹 | 申請(專利權)人: | 英順達科技有限公司;英業達股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/00 | 分類號: | G01R31/00;G01R1/02 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 曾紅 |
| 地址: | 201114 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 組合式 電波 暗室 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種組合式全電波暗室。
背景技術
在EMC(Electro?Magnetic?Compatibility,電磁兼容)測試實驗中,往往要求待測設備或系統在其電磁環境中符合一定的測試條件,并且不會給環境中的任何其他設備造成無法容忍的電磁干擾。為了滿足上述需要,技術人員設計出一種全電波暗室,該全電波暗室是鋪設有吸波材料的封閉式屏蔽室,其中的吸波材料用來降低屏蔽室的內表面的電波反射。
現有技術中,全電波暗室包括一扇門,供測試人員進出和搬運測試設備,諸如測試平臺和天線元件等預先放入該全電波暗室內。但是,全電波暗室中經常需要做不同的電磁測試項目,比如,RF周檢測項目、Throughout項目、RS測試和UFA場地均勻性檢驗等。一般來說,上述每項測試都對全電波暗室內的測試平臺與天線元件之間的間隔距離有著明確的要求,例如,RF周檢測要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端3米,而Throughput要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端1米,以及RS測試要求測試平臺的前邊沿距該天線元件的前端3米,因而進行不同的測試項目時,需要移動天線架和調整天線的高度,以符合各自的測試距離要求。
圖1A示出現有技術中的全電波暗室的外部輪廓示意圖,以及圖1B示出圖1A中的全電波暗室的內部測試示意圖。參照圖1A,該全電波暗室包括一進出門104、兩個轉接板100和102。如前所述,進口門104用于測試人員進出和搬運測試設備,諸如測試平臺和天線元件等預先放入該全電波暗室內,此外,當采用如下方式,即通過挪動暗室內部的地面所鋪設的吸波材料來配合移動天線元件時,在每次測試前均需要重新對全電波暗室內的場地均勻性進行校驗,這也需要測試人員進入暗室內進行人工處理。另外,轉接板100和102分別位于全電波暗室的屏蔽墻,該屏蔽墻由吸波材料和/或屏蔽材料構成。
從圖1A可以看出,轉接板100和102各自設置于屏蔽墻的不同位置處,這是由于,移動天線和調整天線架以便使暗室內的測試平臺與天線元件間保持一預設的間隔距離(諸如1米或3米)時,來自天線架的信號線到轉接板100的長度不同于該信號線到轉接板102的長度,為了減少信號在電纜上的損耗并節約連接線成本,一般將天線架的信號線電性連接至相對較近的轉接板100或102。然而,如上所述,由于全電波暗室的地面鋪設有吸波材料,為了合理地調整天線和天線架的位置,首先必須挪動對應位置的吸波材料,為天線和天線架的挪動騰出一定的空間,這勢必是造成整個暗室內的場地均勻性發生變化,影響電磁測試的測試效率。
進一步結合圖1B,不同的測試項目對應于測試轉桌106與天線元件108之間的預設距離,并且在全電波暗室的地面鋪設有吸波材料110,用于吸收該全電波暗室內的電波反射。例如,RF周檢測要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端為3米,而Throughput要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端為1米,以及RS測試要求測試平臺的前邊沿距該天線元件的前端為3米,并且UFA場地均勻性校驗,當用到16點場強法時,要求測試轉桌前邊沿距離天線元件前端的長度為3米。上述測試項目均需要調整天線元件的架設位置,因而會頻繁地對全電波暗室內進行場地均勻性校驗,降低測試效率。
有鑒于此,如何設計一種組合式全電波暗室,無需通過挪動暗室內的地面上所鋪設的吸波材料來調整測試平臺與天線元件的相對位置,并且在同一暗室中完成不同的測試項目,是業內相關技術人員面臨的一項課題。
實用新型內容
針對現有技術中的上述缺陷,本實用新型提供了一種組合式全電波暗室。
依據本實用新型的一個方面,提供了一種組合式全電波暗室,所述組合式全電波暗室的地面上鋪設有第一吸波材料,且于所述鋪設有第一吸波材料的地面上配置有一測試轉桌,所述測試轉桌上放置有待測元件,所述組合式全電波暗室的一第一屏蔽墻上開設有多個框口,該組合式全電波暗室包括多對第一導軌和多個推拉模組。其中,多對第一導軌與所述多個框口逐一對應,配置于所述鋪設有第一吸波材料的地面上,沿所述第一屏蔽墻朝著與其垂直的方向延伸。多個推拉模組與所述多個框口逐一對應,每一推拉模組通過相對應的所述第一導軌推進或拉出于所述組合式全電波暗室,其中每一所述推拉模組上架設有一測試天線,每一測試天線與所述測試轉桌保持一預設距離,且各預設距離不同。
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