[實用新型]具有二次臺面包裹電極的AlGaN紫外探測器有效
| 申請號: | 201120142481.1 | 申請日: | 2011-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN202134542U | 公開(公告)日: | 2012-02-01 |
| 發明(設計)人: | 李超;李向陽;許金通;劉福浩;張燕;劉向陽;喬輝 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0304 | 分類號: | H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/101 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 20008*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 二次 臺面 包裹 電極 algan 紫外 探測器 | ||
1.一種具有二次臺面包裹電極的AlGaN紫外探測器,其結構為:在襯底(1)上依次生長緩沖層(2)、n型薄膜層(3)、本征薄膜層(4)、p型薄膜層(5)和p型帽層(6),其特征在于:
所述的襯底(1)采用藍寶石、硅、碳化硅或氮化鎵材料;
所述的緩沖層(2)為厚度不小于10nm的AlN或GaN薄膜;
所述的n型薄膜層(3)為電子濃度大于1×1018cm-3的AlGaN薄膜;
所述的本征薄膜層(4)為厚度100nm-300nm的AlGaN薄膜,其中自由載流子濃度小于5×1016cm-3;
所述的p型薄膜層(5)為厚度為100-200nm的AlGaN薄膜,其中空穴濃度大于1×1017cm-3;
所述的p型帽層(6)為厚度為10-100nm的InGaAs、InGaN或AlGaN薄膜,空穴濃度大于1×1017cm-3;
所述的AlGaN紫外探測器為方形或圓形結構,p型帽層(6)及以下10-40nm的p型薄膜層(5)制作成與器件結構相應的方形或圓形的微臺面結構,其邊長或半徑為10-200μm,p包裹型歐姆電極(8)將整個微臺面包裹在電極的中間,本征薄膜層(4)和p型薄膜層(5)構成器件臺面,其形狀制作成與器件結構相對應的方形或圓形,其邊長或半徑比微臺面的邊長或半徑大20-100μm,在n型薄膜層(3)上制備有n型歐姆電極(7),其形狀與方形或圓形器件相對應為長條形或環形結構。?
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





