[實用新型]具有可繞射光柵點的微結構及具有該微結構的構造

無效

• 申請號: 201120111794.0
• 申請日: 2011-04-15
• 公開（公告）號: CN202075763U
• 公開（公告）日: 2011-12-14
• 發明（設計）人: 廖宏榮;張穎岳;何宜津;王毅琪
• 申請（專利權）人: 華錦光電科技股份有限公司
• 主分類號: G06K19/06
• 分類號: G06K19/06;G02B5/18
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 董彬

技術領域

本實用新型有關一種具有光柵點的微結構及其應用，特別是有關一種具有可繞射光柵點的微結構及其應用。

背景技術

為了防止未經允許的復制、制造以及變更文件或產品，防偽策略至今發展出多種的方法。利用照相、油墨材料變化產生圖案的防偽方法需依賴復雜的圖案設計和分辨率，并配合昂貴的印刷機臺才能制作出所需的印刷圖案，如此成本的增加，在許多情形下不能有效提供防止未經允許的復制或變更。

近年來，防偽技術發展迅速，主要以鐳射光全像圖為主，但隨著全像技術的公開，防偽功能亦受到挑戰。中國專利號99814131.3提供一種隱形圖文辨識系統以及其制作方法，利用數字四維變異量技術，于同一系統中制作多種組合的隱形圖文來產生印件上的暗記圖文以及數字辨識器。印件本身通過光的折射和繞射可顯現出暗記圖文，當搭配不同的數字辨識器，則可以顯現另外的暗記圖文。上述專利揭露的數字辨識器上分布多種組合的特定焦距的微小鏡片，雖然具有被動仿制、分解參數、重復加工的困難度，但如此的數字辨識器由于與印件對應，且具有特定焦距的組合，因此數字辨識器的制作需要高精度，當特定的數字辨識器無法取得時，可能造成無法辨識的情形，喪失分級管制的防偽目的。

實用新型內容

本實用新型主要解決的技術問題是，針對現有技術存在的上述不足，提供一種具有可繞射光柵點的微結構，利用光柵的多種參數的搭配，設計出不同層次的防偽結構，以提供不同業者或使用者客制化所需的防偽圖案之用，不同的使用者以及業者亦可透過不同的輔助工具判讀辨識出屬于其層次的圖案。

本實用新型要解決的另一技術問題是，針對現有技術存在的上述不足，提供一種具有可繞射光柵點的微結構，通過不同層次的防偽結構搭配不同的辨識方式，可提供不同業者管理其生產或產品之用，同時達到防偽以及管理產品的目的。

本實用新型要解決的又一技術問題是，針對現有技術存在的上述不足，提供一種具有可繞射光柵點的微結構的膜料，可將判讀工具直接形成于膜料上，提高大量制造的速度以及良率。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是提供一種具有可繞射光柵點的微結構，其包括：包括多個可繞射光柵點的一圖樣區以及運用于該些可繞射光柵點的多個防偽手段，該圖樣區包括一不能目視辨識的圖樣，該些防偽手段包括一影像防偽手段，其中透過一微透鏡數組，以辨識該影像防偽手段下的該不能目視辨識的圖樣的一圖樣影像。

可選地，該圖樣區包括多個微小區塊單元，每一該微小區塊單元包括利用部分該些可繞射光柵點形成的一微小圖樣，該圖樣影像由該些微小圖樣所貢獻而被該微透鏡數組所辨識。

可選地，該些微小區塊單元的維數相同或相異。

可選地，該些防偽手段還包括運用于該些微小區塊單元的一深層防偽手段，該深層防偽手段包括于該些可繞射光柵點之間分布的多個留空點，透過一光學顯微鏡，該深層防偽手段使得該些微小區塊單元之間或是該些微小圖樣不能被辨識。

可選地，該些留空點于該圖樣區為無光柵的點，或是以鐳射直寫方式紀錄的點，或是以電子束書寫方式紀錄的點。

可選地，該微透鏡數組具有一第一周期，該影像防偽手段包括運用于該些微小區塊單元的一第二周期以及一第三周期，該第一周期的大小介于該第二周期以及該第三周期之間，如此使得該圖樣影像包括相對運動的兩部分或是一三維(3D)影像。

可選地，該些防偽手段包括該些可繞射光柵點的多個光柵角度、多個光柵間距、多個光柵點大小相同或相異。

可選地，該些防偽手段包括部分該些可繞射光柵點的多條暗紋與其它的可繞射光柵點的多條暗紋錯位形成的一疊紋圖樣。該些防偽手段也可以包括于該些可繞射光柵點之間分布的多個散射點。

本實用新型還提供一種素材，包括上述的具有可繞射光柵點的微結構，該微結構形成于一高分子層與一反射層之間，其可以更包括位于該高分子層與該反射層之間的一目視可辨識的巨觀圖樣。該目視可辨識的巨觀圖樣包括一油墨印刷圖案或是一全像圖案。

本實用新型還提供一種膜料，其包括上述的具有可繞射光柵點的微結構以及微透鏡數組，其中該具有可繞射光柵點的微結構形成于一高分子層與一反射層之間，該微透鏡數組形成于一紫外光感光層上，該紫外光感光層位于該高分子層遠離該反射層的表面上。此膜料還包括位于該高分子層與該反射層之間的一目視可辨識的巨觀圖樣，也可以還包括形成于該紫外光感光層上的一目視可辨識的全像圖樣。