[實(shí)用新型]OLED玻璃基片清洗設(shè)備無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120096600.4 | 申請(qǐng)日: | 2011-04-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202067842U | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊明生;郭遠(yuǎn)倫;劉惠森;范繼良;王曼媛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/56 | 分類號(hào): | H01L51/56;B08B11/04 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市南城*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | oled 玻璃 清洗 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種自動(dòng)清洗工藝設(shè)備,更具體地涉及一種OLED玻璃基片清洗設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著各種半導(dǎo)體產(chǎn)品的廣泛應(yīng)用及半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體產(chǎn)品的批量生產(chǎn)規(guī)模越來越大。同時(shí)半導(dǎo)體產(chǎn)品的尺寸也越來越大,導(dǎo)致半導(dǎo)體工藝日趨復(fù)雜。而產(chǎn)品的生產(chǎn)不僅要求高精度,也要求高效率及高自動(dòng)化,因此,對(duì)生產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)工藝也提出了更高的要求。對(duì)于半導(dǎo)體制品,例如有機(jī)發(fā)光顯示器件、液晶顯示器件、非晶硅太陽(yáng)能電池板等,其生產(chǎn)都需要利用玻璃等作為基片,在基片上進(jìn)行多種工序進(jìn)而形成多層薄膜,工藝步驟中涉及的鍍膜、光刻、蝕刻等工藝會(huì)產(chǎn)生粉塵附著在基片上,進(jìn)而影響基片的清潔度,基片的清潔度對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量有著重大影響。因此,在于鍍膜、光刻及蝕刻等步驟中必須貫穿有清洗步驟,以維持基片在生產(chǎn)過程中的表面清潔度。
以O(shè)LED(Organic?Light-Emitting?Diode,即有機(jī)發(fā)光二極管)為例,OLED的制造一般都在玻璃基片上進(jìn)行多次工藝步驟,進(jìn)而在基片上相繼沉積多層薄膜,其膜層主要包括在玻璃基片上形成的透明陽(yáng)極,在陽(yáng)極上依次沉積空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和電子注入層,最后是金屬陰極層;在上述各個(gè)工藝步驟中若基片上沉積有粉塵,在下一膜層的形成過程中會(huì)將其覆蓋,從而影響膜層的厚度和均勻性,進(jìn)而影響后續(xù)的工藝質(zhì)量,最終使OLED的質(zhì)量降低。可見所述基片的清潔起著舉足輕重的作用,因此需要一種基片清洗裝置,對(duì)所述基片進(jìn)行高效清洗的同時(shí)也能保證所述基片的高清潔度。
現(xiàn)有用于清潔基片的裝置具有長(zhǎng)方形的流體噴射區(qū),在該區(qū)域內(nèi)相隔預(yù)定位置設(shè)置有多個(gè)噴射口,當(dāng)運(yùn)動(dòng)的基片經(jīng)過時(shí),噴射口內(nèi)噴射出清洗液進(jìn)而對(duì)基片進(jìn)行清洗。但是,這種清潔基片的裝置只是對(duì)所述基片進(jìn)行簡(jiǎn)單的流水線沖洗,清洗不夠徹底。為解決上述問題,通常會(huì)另外增設(shè)清洗裝置來進(jìn)一步清洗所述基片,但這樣便導(dǎo)致整個(gè)清潔裝置的結(jié)構(gòu)復(fù)雜,且增加了生產(chǎn)成本。
因此,急需一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、自動(dòng)化程度高、清潔效率及清潔度高、清洗徹底的OLED玻璃基片清洗設(shè)備。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種OLED玻璃基片清洗設(shè)備,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、自動(dòng)化程度高、清潔效率及清潔度高、清洗徹底。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種OLED玻璃基片清洗設(shè)備,包括清洗機(jī)構(gòu)、傳輸機(jī)構(gòu)以及控制機(jī)構(gòu),所述控制機(jī)構(gòu)控制所述清洗機(jī)構(gòu)清洗OLED玻璃基片及控制所述傳輸機(jī)構(gòu)傳輸OLED玻璃基片,所述傳輸機(jī)構(gòu)形成一呈水平狀的承載面,所述OLED玻璃基片承載于所述承載面上并被傳輸。其中,所述清洗機(jī)構(gòu)包括依次排列的沖洗裝置、風(fēng)干裝置以及烘干裝置,所述沖洗裝置、風(fēng)干裝置以及烘干裝置依次對(duì)所述OLED玻璃基片進(jìn)行洗刷、風(fēng)干以及烘干,所述沖洗裝置包括至少兩組噴淋管組,所述噴淋管組包括呈對(duì)稱設(shè)于所述承載面的上、下側(cè)的噴淋管,所述噴淋管均勻設(shè)有朝向所述承載面的噴嘴,所述噴淋管相互連通且均與外界清洗液連通,位于同一側(cè)的相鄰的所述噴淋管之間設(shè)有滾刷,位于所述承載面的上、下側(cè)的所述滾刷呈對(duì)稱設(shè)置。
具體地,所述傳輸機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)裝置、滾輪及固定架,所述滾輪均勻樞接于所述固定架的兩側(cè)并形成所述承載面,所述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)并帶動(dòng)所述OLED玻璃基片移動(dòng)。
在本實(shí)用新型的一優(yōu)選實(shí)施例中,所述OLED玻璃基片清洗設(shè)備還包括升降裝置及放置于所述升降裝置上的框架,所述控制機(jī)構(gòu)與所述升降裝置電連接并控制所述升降裝置升降,所述升降裝置對(duì)接于所述傳輸機(jī)構(gòu)的輸入端處,所述框架內(nèi)呈層狀的設(shè)置若干相互平行的供OLED玻璃基片放置的卡槽。
較佳地,所述OLED玻璃基片清洗設(shè)備還包括用于儲(chǔ)存清洗液的水箱及與所述水箱連通的總水管,所述總水管分別與所述噴淋管連通。
較佳地,所述烘干裝置為紫外發(fā)光裝置。
具體地,所述風(fēng)干裝置包括至少兩組吹風(fēng)管組,所述吹風(fēng)管組包括成對(duì)稱設(shè)于所述承載面的上、下側(cè)的吹風(fēng)管,所述吹風(fēng)管呈水平傾斜設(shè)置且均勻開設(shè)有氣流孔,所述氣流孔朝向所述承載面并與所述OLED玻璃基片呈銳角,所述吹風(fēng)管與外界壓縮空氣裝置連通。
較佳地,所述吹風(fēng)管的橫截面呈矩形,所述氣流孔沿所述吹風(fēng)管的軸向形成排狀。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





