[實用新型]超導磁體二級凈化裝置

無效

• 申請號: 201120056940.4
• 申請日: 2011-03-07
• 公開（公告）號: CN202061706U
• 公開（公告）日: 2011-12-07
• 發明（設計）人: 陳文華;欒兆坤;馬仲英;易鋼;王軍
• 申請（專利權）人: 江蘇旌凱中科超導高技術有限公司
• 主分類號: B03C1/30
• 分類號: B03C1/30;C02F9/04
• 代理公司: 江陰市同盛專利事務所 32210
• 代理人: 唐紉蘭

1.?超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，包括具有室溫孔的超導磁體（1）和穿過所述室溫孔運動的分離框（3）；所述分離框（3）內設置有非磁性篩（4），在所述分離框（3）內且位于所述非磁性篩（4）的下方設置有二級凈化部件；在所述室溫孔的入口處設置有原料入口（6），并且所述原料入口（6）位于所述分離框（3）上方，所述二級凈化部件為鋼毛（7）或鋼網。

2.根據權利要求1所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，所述非磁性篩（4）與所述分離框（3）底面的夾角為30度—75度。

3.根據權利要求1所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，所述非磁性篩（4）與所述分離框（3）底面的夾角為45度—60度。

4.根據權利要求1-3任一所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，所述分離框是安裝在穿過所述超導磁體室溫孔的循環鏈條以及驅動機構上構成的環形循環式分離框。

5.根據權利要求4所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，在所述超導磁體低磁場區設置自下向上或自上向下的沖擊氣流或水流。

6.根據權利要求1-3任一所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，所述分離框是安裝在穿過所述超導磁體室溫孔的往復驅動機構上構成的往復式分離框。

7.根據權利要求6所述的超導磁體二級凈化裝置，其特征在于，在所述超導磁體低磁場區設置自下向上或自上向下的沖擊氣流或水流。