[實用新型]足浴盆無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120052645.1 | 申請日： | 2011-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN202044170U | 公開（公告）日： | 2011-11-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陽曉峰 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞聯(lián)碩電子有限公司 |
| 主分類號： | A47K3/022 | 分類號： | A47K3/022 |
| 代理公司： | 東莞市華南專利商標事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人： | 劉克寬 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞市東城區(qū)*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 浴盆 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種足浴盆，包括有盆體和加熱元件，其特征在于：所述盆體內(nèi)設(shè)置有排擠水裝置，所述排擠水裝置底部靠近所述盆體的底部，所述排擠水裝置的一側(cè)與所述盆體的一側(cè)分別設(shè)置有通孔，所述通孔內(nèi)設(shè)置有鉸接軸，所述排擠水裝置的一側(cè)與所述盆體的一側(cè)通過鉸接軸活動連接，所述排擠水裝置的另一側(cè)呈波浪形狀，所述排擠水裝置與所述盆體之間的區(qū)域為足浴區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述排擠水裝置的另一側(cè)設(shè)置有支撐軸，所述支撐軸的底端低于所述排擠水裝置的底部，當(dāng)所述排擠水裝置置于所述盆體內(nèi)時，所述支撐軸的底端與所述盆體的底部接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的足浴盆，其特征在于：所述支撐軸的頂端設(shè)置有拉手。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述盆體的頂部設(shè)置有盆蓋。
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