[實用新型]PECVD沉積腔體吹掃系統

有效

• 申請號: 201120031726.3
• 申請日: 2011-01-29
• 公開（公告）號: CN201962354U
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 高星
• 申請（專利權）人: 常州天合光能有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 王凌霄

技術領域

本實用新型涉及PECVD鍍膜設備技術領域，特別是一種PECVD沉積腔體吹掃系統。

背景技術

之前由于要保護MFC，用于吹掃的N2的壓力不能太大，吹掃系統只針對特氣管路進行吹掃，壓力比較小，對腔體內雜質、特氣孔處掉片等不能起到清除作用。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：對現有的吹掃系統進行改進，吹掃掉特氣孔上的掉片等雜質，達到不開腔體清除掉片的目的，大大提升機臺的正常運行時間。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種PECVD沉積腔體吹掃系統，包括質量流量控制器以及質量流量控制器兩端的管路，在質量流量控制器旁設置導氣旁路，在質量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路的交匯處加裝保護質量流量控制器的氣體控制閥門。

本實用新型的有益效果是：現有吹掃系統每次出現掉片只能開腔體解決，嚴重影響產能，利用本吹掃系統實現不開腔體解決掉片問題，大大提升機臺正常運行時間。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明；

圖1是本實用新型的結構示意圖；

其中：1.質量流量控制器，2.保護閥門，3.導氣旁路。

具體實施方式

現在結合附圖1對本實用新型作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。

如圖1所示的PECVD沉積腔體吹掃系統，包括質量流量控制器1以及質量流量控制器1兩端的管路，在質量流量控制器1旁設置導氣旁路3，在質量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路3的交匯處加裝保護質量流量控制器1的氣體控制閥門2。質量流量控制器1即MFC。

增大N2供應端的壓力，因為有保護閥門2保護質量流量控制器，使N2能以更大的速度和壓力通過導氣旁路3到達特氣孔，吹掃掉堵在特氣孔上的掉片。

以現有吹掃系統每次出現掉片只能開腔體解決，機臺停止2～3小時，影響產能3000片左右，利用本吹掃系統將掉片直接吹離特氣孔，實現不開腔體解決掉片問題，大大提升機臺正常運行時間，提高產能。